WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2017040415) SYSTÈME D'ANNULATION DE POLARISATION RF DU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/040415    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/049293
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 29.08.2016
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : MKS INSTRUMENTS, INC. [US/US]; 2 Tech Drive, Suite 201 Andover, Massachusetts 01810 (US)
Inventeurs : RADOMSKI, Aaron T.; (US).
LEE, Sang Won; (KR).
FISK, II, Larry J.; (US).
SMYKA, Jonathan W.; (US)
Mandataire : LAFATA, Joseph M.; (US).
AMBROSE, John; (US).
AQUINO, Damian M.; (US).
BRENNAN, Michael P.; (US).
BROCK, Christopher M.; (US).
CASTELLANO, John A. III; (US).
CHANG, Alex C.; (US).
CHAPP, Jeffrey J.; (US).
CHO, David J.; (US).
CUTLER, Matthew L.; (US).
DALEY, Donald J.; (US).
DELASSUS, Gregory S.; (US).
DOERR, Michael P.; (US).
DOWDY, Stephanie L.; (US).
DRYSDALE, Nicholas S.; (US).
ELCHUK, Mark D.; (US).
ERJAVAC, Stanley M.; (US).
EUSEBI, Christopher A.; (US).
FADIPE, Abha T.; (US).
FALCOFF, Monte L.; (US).
FITZPATRICK, John W.; (US).
FORBIS, Glenn E.; (US).
FOSS, Stephen J.; (US).
FRANKLIN, Clarence C.; (US).
FRENTRUP, Mark A.; (US).
FULLER, Roland A., III; (US).
FUSSNER, Anthony G.; (US).
HEIST, Jason A.; (US).
HILTON, Michael E.; (US).
HOFFMAN, Erin G.; (US).
HOYT, Blair D.; (US).
KELLER, Paul A.; (US).
KESKAR, Hemant M.; (US).
KIM, Joshua; (US).
KOTSIS, Damian; (US).
KORAL, Elizabeth; (US).
LEE, Kisuk; (US).
LI, Zhen Jessica; (US).
LUCHSINGER, James B.; (US).
MACINTYRE, Timothy D.; (US).
MALINZAK, Michael; (US).
MANNING, Daisy; (US).
MARTIN, Timothy J.; (US).
MASSEY, Ryan W.; (US).
MEYER, Greg W.; (US).
MIERZWA, Kevin G.; (US).
MILLER, H. Keith; (US).
MOUSTAKAS, George D.; (US).
NABI, Tarik M.; (US).
NYE, Michael R.; (US).
ODELL, Elizabeth D.; (US).
OLSON, Stephen T.; (US).
PANKA, Brian G.; (US).
PYTEL, JR., Joseph J.; (US).
RAKERS, Leanne; (US).
ROBINSON, Douglas A.; (US).
SCHIVLEY, G. Gregory; (US).
SCHMIDT, Michael J.; (US).
SEITZ, Brent G.; (US).
SIMINSKI, Robert M.; (US).
SMITH, Corey E.; (US).
SMITH, Michael L.; (US).
SNYDER, Jeffrey L.; (US).
STOBBS, Gregory A.; (US).
STRAUSS, Ryan N.; (US).
SUTER, David L.; (US).
TAYLOR, Michael L.; (US).
TAYLOR, W.R. Duke; (US).
TEICH, Michael L.; (US).
TELSCHER, Rudolph A., Jr.; (US).
THOMAS, Michael J.; (US).
TUCKER, JR., David J.; (US).
UTYKANSKI, David P.; (US).
VARCO, Michael A.; (US).
WADE, Bryant E.; (US).
WALKER, Donald G.; (US).
WALSH, Joseph E., Jr.; (US).
WANGEROW, Steven D.; (US).
WARNER, Richard W.; (US).
WAXMAN, Andrew M.; (US).
WHEELOCK, Bryan K.; (US).
WIGGINS, Michael D.; (US).
WOODSIDE-WOJTALA, Jennifer; (US).
YACURA, Gary D.; (US).
ZALOBSKY, Michael D.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/212,661 01.09.2015 US
15/236,661 15.08.2016 US
Titre (EN) PLASMA RF BIAS CANCELLATION SYSTEM
(FR) SYSTÈME D'ANNULATION DE POLARISATION RF DU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)An RF supply system in which a bias RF generator operates at a first frequency to provide a bias RF output signal and a source RF generator operates at a second frequency to provide a source RF output signal. The RF output power signals are applied to a load, such as a plasma chamber. The source RF generator detects a triggering event. In response to the triggering event, the source RF generator initiates adding frequency offsets to the source RF output signal in order to respond to impedance fluctuations in the plasma chamber that occur with respect to the triggering event. The triggering event detected by the source RF generator can be received from the bias RF generator in the form of a control signal that varies in accordance with the bias RF output signal.
(FR)L'invention concerne un système d'alimentation RF dans lequel un générateur RF de polarisation fonctionne à une première fréquence pour émettre un signal de sortie RF de polarisation, et un générateur RF source qui fonctionne à une seconde fréquence pour émettre un signal de sortie RF source. Les signaux d'alimentation de sortie RF sont appliqués à une charge, telle qu'une chambre à plasma. Le générateur RF source détecte un événement de déclenchement. En réponse à l'événement de déclenchement, le générateur RF source déclenche l'ajout de décalages de fréquence au signal de sortie RF source afin de répondre à des fluctuations d'impédance dans la chambre à plasma qui se produisent par rapport à l'événement de déclenchement. L'événement de déclenchement détecté par le générateur RF source peut être reçu du générateur RF de polarisation sous la forme d'un signal de commande qui varie en fonction du signal de sortie RF de polarisation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)