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1. (WO2017038627) NOUVEAU COMPOSÉ DE DIAMINE POSSÉDANT UNE CAPACITÉ DE GÉNÉRATION DE RADICAUX ET UNE CAPACITÉ DE GÉNÉRATION DE BASES, ET NOUVEAU POLYMÈRE IMIDE UTILISANT LEDIT NOUVEAU COMPOSÉ DE DIAMINE COMME MATÉRIAU DE DÉPART
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/038627    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/074827
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 25.08.2016
CIB :
C07D 295/135 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), G02F 1/1337 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : KAWANO, Yuta; (JP).
ASHIZAWA, Ryoichi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; (JP).
OGAWA, Toshiharu; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-169557 28.08.2015 JP
Titre (EN) NOVEL DIAMINE COMPOUND HAVING RADICAL GENERATION ABILITY AND BASE GENERATION ABILITY, AND NOVEL IMIDE POLYMER USING SAID NOVEL DIAMINE COMPOUND AS STARTING MATERIAL
(FR) NOUVEAU COMPOSÉ DE DIAMINE POSSÉDANT UNE CAPACITÉ DE GÉNÉRATION DE RADICAUX ET UNE CAPACITÉ DE GÉNÉRATION DE BASES, ET NOUVEAU POLYMÈRE IMIDE UTILISANT LEDIT NOUVEAU COMPOSÉ DE DIAMINE COMME MATÉRIAU DE DÉPART
(JA) ラジカル発生能及び塩基発生能を有する新規なジアミン化合物及びそれを原料とする新規なイミド系重合体
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a novel diamine having radical generation ability and base generation ability by means of irradiation of ultraviolet light; and a novel imide polymer which uses this novel diamine as a starting material. A diamine represented by formula (1); and an imide polymer which is composed of a polyimide precursor that uses the diamine as a starting material and/or a polyimide that is obtained by imidizing the polyimide precursor. (In formula (1), each of T1 and T2 represents a single bond or a linking group such as -O-, -COO-; G represents a divalent heterocyclic group having two nitrogen atoms; each of R1 and R2 represents an alkyl group having 1-10 carbon atoms, or the like; and Q represents a group represented by formula AA.) (In formula AA, R represents a hydrogen atom or the like; and R3 represents a nitrogen atom or the like.)
(FR)L'invention concerne : une nouvelle diamine ayant une capacité de génération de radicaux et une capacité de génération de bases au moyen de l'irradiation de lumière ultraviolette; et un nouveau polymère imide qui utilise cette nouvelle diamine comme matériau de départ. L'invention concerne une diamine représentée par la formule (1); et un polymère imide qui est composé d'un précurseur de polyimide qui utilise la diamine comme matériau de départ et/ou un polyimide qui est obtenu par imidation du précurseur de polyimide. (Dans la formule (1), chacun de T 1 et T2 représente une simple liaison ou un groupe de liaison tel que -O -, -COO -; G représente un groupe hétérocyclique divalent ayant deux atomes d'azote; chacun de R 1 et R2 représente un groupe alkyle ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou analogue; et Q représente un groupe représenté par la formule AA.) (Dans la formule AA, R représente un atome d'hydrogène ou similaire; et R3 représente un atome d'azote ou similaire.)
(JA)紫外線の照射による、ラジカル発生能及び塩基発生能を有する新規なジアミン、及びそれを原料とする新規なイミド系重合体を提供する。式(1)で表されるジアミン、及び該ジアミンを原料とするポリイミド前駆体及び/又はそれをイミド化して得られるポリイミドからなるイミド系重合体。式(1)(T1、T2は、単結合、-O-、-COO-等の結合基;Gは2つの窒素原子を有する2価の複素環基;R1、R2は、炭素数1~10のアルキル基等;Qは下記の基)式(2)(Rは水素原子等;R3は窒素原子等)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)