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1. (WO2017038488) COMPOSITION DE REVÊTEMENT DURCISSABLE À BASSE TEMPÉRATURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/038488    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/074177
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 19.08.2016
CIB :
C09D 201/02 (2006.01), C08L 101/02 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 201/06 (2006.01), C09D 201/08 (2006.01)
Déposants : NIPPON PAINT HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 2-1-2, Oyodokita, Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5318511 (JP)
Inventeurs : ONISHI Isamu; (JP).
KUBO Akihiro; (JP).
TOYOTA, Yukiko; (JP).
KUSHI Yoshinori; (JP)
Mandataire : SAMEJIMA, Mutsumi; AOYAMA & PARTNERS, Umeda Hankyu Bldg. Office Tower, 8-1, Kakuda-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300017 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-174825 04.09.2015 JP
Titre (EN) LOW-TEMPERATURE-CURABLE COVERING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE REVÊTEMENT DURCISSABLE À BASSE TEMPÉRATURE
(JA) 低温硬化性被覆組成物
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a covering composition which cures at low temperatures to form a cured film having high solvent resistance. The present invention provides a low-temperature-curable covering composition which comprises (A) a film-forming polymer having a hydrogen-donating functional group that has a heteroatom which has bonded covalently to a hydrogen atom, (B) a film-forming polymer having a specific hydrogen-accepting functional group that has a heteroatom to which no hydrogen atom has bonded covalently, and (C) a non-basic volatile solvent selected from the group consisting of: a non-basic volatile solvent (C-1) having, in the molecule, both a heteroatom that bonds covalently to a hydrogen atom and a heteroatom that does not bond covalently to a hydrogen atom; a mixture of a non-basic volatile solvent (C-2) having, in the molecule, a heteroatom that has covalently bonded to a hydrogen atom and a non-basic volatile solvent (C-3) having, in the molecule, a heteroatom to which no hydrogen atom has bonded covalently; and combinations thereof.
(FR)La présente invention concerne une composition de revêtement qui durcit à basses températures pour former un film durci présentant une résistance élevée aux solvants. La présente invention se rapporte à une composition de revêtement durcissable à basse température qui comprend (A) un polymère filmogène ayant un groupe fonctionnel donneur d'hydrogène qui a un hétéroatome qui est lié par covalence à un atome d'hydrogène, (B) un polymère filmogène ayant un groupe fonctionnel accepteur d'hydrogène spécifique qui a un hétéroatome auquel aucun atome d'hydrogène n'est lié par covalence, et (C) un solvant volatile non basique choisi dans le groupe constitué par : un solvant volatil non basique (C-1) ayant, dans la molécule, à la fois un hétéroatome qui se lie par covalence à un atome d'hydrogène et un hétéroatome qui ne se lie pas par covalence à un atome d'hydrogène ; un mélange d'un solvant volatil non basique (C-2) ayant, dans la molécule, un hétéroatome qui est lié par covalence à un atome d'hydrogène et d'un solvant volatil non basique (C-3) ayant, dans la molécule, un hétéroatome auquel aucun atome d'hydrogène n'est lié par covalence ; et des combinaisons de ces derniers.
(JA)本発明は、低温で硬化して、耐溶剤性の高い硬化被膜を形成する被覆組成物を提供する。 本発明は、(A)水素原子に共有結合しているヘテロ原子を有する水素供与性官能基を有する被膜形成性高分子、 (B)水素原子が共有結合していないヘテロ原子を有する水素受容性官能基の内特定のものを有する被膜形成性高分子、および (C)分子内に水素原子と共有結合するヘテロ原子および水素原子と共有結合しないヘテロ原子の両方のヘテロ原子を有する非塩基性揮発性溶媒(C-1);分子内に水素原子に共有結合しているヘテロ原子を有する非塩基性揮発性溶媒(C-2)と分子内に水素原子が共有結合していないヘテロ原子を有する非塩基性揮発性溶媒(C-3)との混合物;およびその組合せから成る群から選択される非塩基性揮発性溶媒、 を含有する低温硬化性被覆組成物を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)