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1. (WO2017038346) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION D’HYDROGÈNE GAZEUX ET PROCÉDÉ DE SÉPARATION ET DE RÉCUPÉRATION D’HYDROGÈNE GAZEUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/038346    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/072591
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 02.08.2016
CIB :
C01B 3/56 (2006.01), B01J 20/18 (2006.01), B01J 20/20 (2006.01), B01J 20/34 (2006.01), C01B 33/035 (2006.01), C01B 39/44 (2006.01), B01D 53/68 (2006.01), B01D 53/72 (2006.01), B01D 53/75 (2006.01), B01D 53/78 (2006.01), B01D 53/82 (2006.01), B01D 53/96 (2006.01)
Déposants : SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventeurs : ISHIDA, Masahiko; (JP).
NETSU, Shigeyoshi; (JP).
SAITO, Hiroshi; (JP).
TANAKA, Shuji; (JP)
Mandataire : OHNO, Seiji; (JP).
KATAYAMA, Ken-ichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-169231 28.08.2015 JP
Titre (EN) HYDROGEN GAS RECOVERY SYSTEM AND HYDROGEN GAS SEPARATION AND RECOVERY METHOD
(FR) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION D’HYDROGÈNE GAZEUX ET PROCÉDÉ DE SÉPARATION ET DE RÉCUPÉRATION D’HYDROGÈNE GAZEUX
(JA) 水素ガス回収システムおよび水素ガスの分離回収方法
Abrégé : front page image
(EN)This hydrogen gas recovery system includes: a condensing and separating device (A) that condenses and separates chlorosilanes from reaction exhaust gases, which includes hydrogen, from a polycrystalline silicon manufacturing step; a compressing device (B) that compresses the reaction exhaust gases including hydrogen; an absorbing device (C) that contacts the reaction exhaust gases including hydrogen with an absorbing liquid to absorb and separate hydrogen chloride; a first adsorbing device (D) that includes an adsorption tower which is filled with activated carbon for adsorbing and removing methane, hydrogen chloride, and a part of the chlorosilanes that are included in the reaction exhaust gases including hydrogen; a second adsorbing device (E) that includes an adsorption tower which is filled with synthetic zeolite that adsorbs and removes the methane included in the reaction exhaust gases including hydrogen; and a gas line (F) that recovers purified hydrogen gas in which concentration of methane has been reduced.
(FR)La présente invention concerne un système de récupération d’hydrogène gazeux comprenant : un dispositif de condensation et de séparation (A) qui condense et sépare les chlorosilanes des gaz d’échappement réactionnels comprenant de l’hydrogène, provenant d’une étape de fabrication de silicium polycristallin ; un dispositif de compression (B) qui comprime les gaz d’échappement réactionnels comprenant l’hydrogène ; un dispositif d’absorption (C) qui met en contact les gaz d’échappement réactionnels comprenant de l’hydrogène avec un liquide absorbant pour absorber et séparer le chlorure d’hydrogène ; un premier dispositif d’adsorption (D) qui comprend une colonne d’adsorption qui est remplie du carbone actif pour l’adsorption et l’élimination du méthane, du chlorure d’hydrogène, et d’une partie des chlorosilanes qui sont compris dans les gaz d’échappement réactionnels comprenant l’hydrogène ; un second dispositif d’adsorption (E) qui comprend une colonne d’adsorption qui est remplie de zéolite synthétique qui adsorbe et retire le méthane compris dans les gaz d’échappement réactionnels comprenant l’hydrogène ; et une conduite de gaz (F) qui récupère l’hydrogène gazeux purifié dans lequel la concentration du méthane a été réduite.
(JA)本発明の水素ガス回収システムは、多結晶シリコン製造工程からの、水素を含む反応排ガスからクロロシラン類を凝縮分離する凝縮分離装置(A)と、水素を含む反応排ガスを圧縮する圧縮装置(B)と、水素を含む反応排ガスを吸収液と接触させて塩化水素を吸収分離する吸収装置(C)と、水素を含む反応排ガスに含まれる、メタン、塩化水素、およびクロロシラン類の一部を吸着除去するための活性炭を充填した吸着塔からなる第1の吸着装置(D)と、水素を含む反応排ガスに含まれるメタンを吸着除去する合成ゼオライトを充填した吸着塔からなる第2の吸着装置(E)と、メタン濃度を低減させた精製水素ガスを回収するガスライン(F)により構成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)