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1. (WO2017038189) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE THERMISTANCE NTC
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/038189    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/066970
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 07.06.2016
CIB :
H01C 7/04 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP)
Inventeurs : HIRATA, Yuichi; (JP).
UEDA, Yukiko; (JP)
Mandataire : KAWAMOTO, Takashi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-173969 03.09.2015 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING NTC THERMISTOR
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE THERMISTANCE NTC
(JA) NTCサーミスタの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing an NTC thermistor that includes a plating layer formed by plating external electrodes, in which variation of characteristics due to heating during mounting, and variation of characteristics after long-term use at high temperatures of, for example, 150°C or less, are suppressed. The method for manufacturing an NTC thermistor is configured so as to be provided with, in the stated order: a step for producing an unfired ceramic element that is provided with a ceramic element 1, and external electrodes 3, 4, the external electrodes 3, 4 including at least one plating layer 3c, 4c formed by plating; a step in which the unfired ceramic element is fired using a prescribed firing profile, and a ceramic element 1 is produced; a step in which plating is applied to the ceramic element 1, and a plating layer 3c, 4c is formed; and a step in which the ceramic element 1 is annealed in a low-oxygen atmosphere.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une thermistance NTC qui comprend une couche de placage formée par placage d'électrodes externes, dans laquelle sont supprimées une variation de caractéristiques due à une chauffe pendant le montage et une variation de caractéristiques après une utilisation à long terme à hautes températures, par exemple, inférieures ou égales à 150 °C. Le procédé de fabrication d'une thermistance NTC est configuré de façon à comprendre, dans l'ordre indiqué : une étape consistant à produire un élément en céramique non cuit qui comprend un élément en céramique 1, et des électrodes externes 3, 4, les électrodes externes 3, 4 comprenant au moins une couche de placage 3c, 4c formée par placage ; une étape durant laquelle l'élément en céramique non cuit est cuit à l'aide d'un profil de cuisson prescrit, et un élément en céramique 1 est produit ; une étape durant laquelle un placage est appliqué à l'élément en céramique 1, et une couche de placage 3c, 4c est formée ; et une étape durant laquelle l'élément en céramique 1 est recuit dans une atmosphère pauvre en oxygène.
(JA)実装時の加熱による特性変動、および、たとえば150℃以下の高温下での長時間使用後の特性変動が抑制された、外部電極にめっきにより形成されためっき層を含むNTCサーミスタの製造方法を提供する。 セラミック素体1と、外部電極3、4と、を備え、外部電極3、4が、めっきにより形成された少なくとも1層のめっき層3c、4cを含み、未焼成セラミック素体を作製する工程と、未焼成セラミック素体を所定の焼成プロファイルで焼成し、セラミック素体1を作製する工程と、セラミック素体1にめっきを施し、めっき層3c、4cを形成する工程と、低酸素雰囲気中で、セラミック素体1にアニールをおこなう工程と、を順に備えるようにした。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)