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1. (WO2017037352) SYSTÈME D'ANALYSE ET D'ACTIVATION ET/OU DE LIBÉRATION LOCALISÉE POUR LE VISAGE HUMAIN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/037352    N° de la demande internationale :    PCT/FR2015/052354
Date de publication : 09.03.2017 Date de dépôt international : 04.09.2015
CIB :
A61B 5/00 (2006.01), A45D 44/00 (2006.01), A61K 8/02 (2006.01)
Déposants : WB TECHNOLOGIES [FR/FR]; 4 rue Michelet F-75006 Paris (FR)
Inventeurs : VANDIER, Stanislas; (FR).
BURTY-VALIN, Elodie; (FR).
PRUNIER, Benjamin; (FR).
MEUNIER, Jean-Roch; (FR).
GROLLIER, Jean-François; (FR).
DUBIEF, Claude; (FR)
Mandataire : CASALONGA; 8 avenue Percier 75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SYSTEM FOR ANALYSIS AND ACTIVATION AND/OR LOCALISED RELEASE FOR THE HUMAN FACE
(FR) SYSTÈME D'ANALYSE ET D'ACTIVATION ET/OU DE LIBÉRATION LOCALISÉE POUR LE VISAGE HUMAIN
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a system for analysis and activation and/or active and localised release, comprising a mask (1) for applying to at least part of the face of the user, provided with at least one device (2) for analysing the skin of the face and at least one means for the active and localised release (3) of dermocosmetic formulations from at least one storage means.
(FR)Système d'analyse et d'activation et/ou de libération active et localisée comprenant un masque (1) destiné à être appliqué sur au moins une partie du visage de l'utilisateur muni d'au moins un dispositif d'analyse (2) de la peau du visage et d'au moins un moyen de libération (3)active et localisée de formules dermo-cosmétiques issues d'au moins un moyen de stockage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)