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1. (WO2017035130) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION, DE RÉÉQUILIBRAGE ET DE REMISE EN CIRCULATION DE MÉLANGES DE LASER À GAZ UTILISÉS DANS UN SYSTÈME LASER À HAUTE ÉNERGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/035130    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/048169
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 23.08.2016
CIB :
H01S 3/225 (2006.01), H01S 3/03 (2006.01), H01S 3/097 (2006.01)
Déposants : MATHESON TIR-GAS, INC. [US/US]; 150 Allen Road Basking Ridge, NJ 07920 (US)
Inventeurs : VININSKI, Joseph; (US).
SCOTT, Dane; (US)
Mandataire : PETERSEN, Steven, C.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/209,220 24.08.2015 US
62/335,900 13.05.2016 US
Titre (EN) SYSTEM FOR RECLAIMING, REBALANCING AND RECIRCULATING LASER GAS MIXTURES USED IN A HIGH ENERGY LASER SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RÉCUPÉRATION, DE RÉÉQUILIBRAGE ET DE REMISE EN CIRCULATION DE MÉLANGES DE LASER À GAZ UTILISÉS DANS UN SYSTÈME LASER À HAUTE ÉNERGIE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a system for recirculating the gas atmosphere within an excimer laser system, where contaminates, created in the laser's operation, are removed, and the gas concentrations of additive gases, such as Xe, Kr, or others, depleted in the laser operation, are rebalanced to specific lazing mixtures by analyzation and component replenishment from one or more external supplies.
(FR)La présente invention concerne un système de recirculation de l'atmosphère de gaz à l'intérieur d'un système laser à excimère, où des contaminants, créés pendant le fonctionnement du laser, sont éliminés, et les concentrations d'additifs gazeux, tels que le Xe, le Kr, ou autres, appauvries pendant le fonctionnement du laser, sont rééquilibrées pour former des mélanges spécifiques de traitement laser par analyse et remplissage de constituants à partir d'une ou plusieurs source(s) d'alimentation externe(s).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)