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1. (WO2017034213) ANNEAU DE NETTOYAGE AU PLASMA POUR LE NETTOYAGE IN SITU, APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA COMPRENANT UN ANNEAU AU PLASMA, SYSTÈME DE TRAITEMENT AU PLASMA COMPRENANT L'ANNEAU DE NETTOYAGE AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA UTILISANT L'ANNEAU DE NETTOYAGE AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/034213    N° de la demande internationale :    PCT/KR2016/009074
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 18.08.2016
CIB :
H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : NP HOLIDINGS CO., LTD. [KR/KR]; 176, Sinwon-ro Yeongtong-gu Suwon-si Gyeonggi-do 16681 (KR)
Inventeurs : CHOI, Dai Kyu; (KR)
Mandataire : KIM, Nam Jeung; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2015-0120328 26.08.2015 KR
10-2015-0120338 26.08.2015 KR
Titre (EN) PLASMA CLEANING RING FOR IN-SITU CLEANING, PLASMA PROCESSING APPARATUS INCLUDING A PLASMA RING, PLASMA PROCESSING SYSTEM INCLUDING THE PLASMA CLEANING RING AND PLASMA PROCESSING METHOD USING THE PLASMA CLEANING RING
(FR) ANNEAU DE NETTOYAGE AU PLASMA POUR LE NETTOYAGE IN SITU, APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA COMPRENANT UN ANNEAU AU PLASMA, SYSTÈME DE TRAITEMENT AU PLASMA COMPRENANT L'ANNEAU DE NETTOYAGE AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT AU PLASMA UTILISANT L'ANNEAU DE NETTOYAGE AU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)The substrate can be selectively transferred by a vacuum or edge grip method according to the process characteristics, using a single substrate transfer robot equipped in the front end module. Additionally, after the process, the substrate can be loaded using the buffer chamber, for the cooling process and transfer of the substrate.
(FR)Le substrat peut être sélectivement transféré par un procédé sous vide ou de préhension de bord selon les caractéristiques du procédé, à l'aide d'un seul robot de transfert de substrat disposé dans le module d'extrémité avant. En outre, après le procédé, le substrat peut être chargé à l'aide de la chambre tampon, pour le procédé de refroidissement et le transfert du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)