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1. (WO2017033835) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DE RÉSINE DURCI, PARTITION, ÉLÉMENT OPTIQUE, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/033835    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/074150
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 18.08.2016
CIB :
G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : KAWASHIMA Masayuki; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; 6F Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-163787 21.08.2015 JP
Titre (EN) NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RESIN FILM, PARTITION, OPTICAL ELEMENT, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DE RÉSINE DURCI, PARTITION, ÉLÉMENT OPTIQUE, ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁ならびに光学素子およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a negative-type photosensitive resin composition that is for an optical element, that has good ink repellency, and that makes it possible to reduce residue in an opening; a cured resin film that is for an optical element and that has good ink repellency; a partition that is for an optical element and that makes it possible to form a highly precise pattern; and an optical element comprising the partition. The negative-type photosensitive resin composition contains a photocurable alkali-soluble resin or alkali-soluble monomer, a photopolymerization initiator comprising an acridine compound, and an ink repellent. The present invention also provides a cured film formed using the negative-type photosensitive resin composition, a partition, an organic EL element comprising a plurality of dots and the partition positioned between adjacent dots on a substrate surface, a quantum dot display, a TFT array, and a thin-film solar cell.
(FR)La présente invention porte sur : une composition de résine photosensible de type négatif qui est destinée à un élément optique, qui présente une bonne répulsion de l'encre, et qui permet de réduire un résidu dans une ouverture; un film de résine durci qui est destiné à un élément optique et qui présente une bonne répulsion de l'encre; une partition qui est destinée à un élément optique et qui permet de former un motif hautement précis; et un élément optique comprenant la partition. La composition de résine photosensible de type négatif contient une résine soluble dans les alcalins photodurcissable ou un monomère soluble dans les alcalins, un initiateur de photopolymérisation comprenant un composé acridine, et un répulsif de l'encre. La présente invention porte également sur un film durci formé à l'aide de la composition de résine photosensible de type négatif, une partition, un élément électroluminescent (EL) organique comprenant une pluralité de points et la partition positionnée entre des points adjacents sur une surface de substrat, un dispositif d'affichage à points quantiques, un réseau de transistors en couches minces (TFT), et une cellule solaire en couche mince.
(JA)良好な撥インク性を有するとともに開口部における残渣の低減が可能な光学素子用のネガ型感光性樹脂組成物、良好な撥インク性を有する光学素子用の樹脂硬化膜、精度の高いパターンの形成が可能な光学素子用の隔壁および、該隔壁を有する光学素子の提供。光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性単量体と、アクリジン系の化合物からなる光重合開始剤と、撥インク剤とを含有するネガ型感光性樹脂組成物、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜、隔壁、および基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する該隔壁とを有する有機EL素子、量子ドットディスプレイ、TFTアレイ、薄膜太陽電池。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)