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1. (WO2017033834) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DE RÉSINE DURCI, SÉPARATION, ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/033834    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/074149
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 18.08.2016
CIB :
G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H01L 51/44 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : KAWASHIMA Masayuki; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; 6F Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-163786 21.08.2015 JP
Titre (EN) NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED RESIN FILM, PARTITION, OPTICAL ELEMENT, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE NÉGATIF, FILM DE RÉSINE DURCI, SÉPARATION, ÉLÉMENT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁ならびに光学素子およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are: a negative-type photosensitive resin composition that is for an optical element, that has good ink repellency, and that makes it possible to reduce residue in an opening; a cured resin film that is for an optical element and that has good ink repellency; a partition that is for an optical element and that makes it possible to form a highly precise pattern; and an optical element comprising the partition. The negative-type photosensitive resin composition contains a photocurable alkali-soluble resin or alkali-soluble monomer, a photopolymerization initiator comprising an α-hydroxyalkylphenone compound, and an ink repellent. The present invention also provides a cured film formed using the negative-type photosensitive resin composition, a partition, an organic EL element comprising a plurality of dots and the partition positioned between adjacent dots on a substrate surface, a quantum dot display, a TFT array, and a thin-film solar cell.
(FR)La présente invention concerne : une composition de résine photosensible de type négatif destinée à un élément optique, présentant une bonne aptitude à repousser l’encre et permettant de réduire la formation de résidus dans une ouverture ; un film de résine durci destiné à un élément optique et présentant une bonne aptitude à repousser l’encre ; une séparation destinée à un élément optique et permettant de former un motif d’une grande précision ; et un élément optique comprenant la séparation. La composition de résine photosensible de type négatif renferme une résine photodurcissable soluble dans les alcalis ou un monomère photodurcissable soluble dans les alcalis, un initiateur de photopolymérisation comprenant un composé α-hydroxyalkylphénone et un agent repoussant l’encre. La présente invention porte également sur un film durci formé à l’aide de la composition de résine photosensible de type négatif, une séparation, un élément électroluminescent organique comprenant une pluralité de points et la séparation placée entre des points adjacents sur une surface formant substrat, un affichage à points quantiques, une matrice TFT et une cellule solaire en couches minces.
(JA)良好な撥インク性を有するとともに開口部における残渣の低減が可能な光学素子用のネガ型感光性樹脂組成物、良好な撥インク性を有する光学素子用の樹脂硬化膜、精度の高いパターンの形成が可能な光学素子用の隔壁および、該隔壁を有する光学素子の提供。光硬化性を有するアルカリ可溶性樹脂またはアルカリ可溶性単量体と、α-ヒドロキシアルキルフェノン系の化合物からなる光重合開始剤と、撥インク剤とを含有するネガ型感光性樹脂組成物、該ネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜、隔壁、および基板表面に複数のドットと隣接するドット間に位置する該隔壁とを有する有機EL素子、量子ドットディスプレイ、TFTアレイ、薄膜太陽電池。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)