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1. (WO2017033828) COMPOSITION D'ENCRE DESTINÉE À DES ÉLÉMENTS À SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE, ET ÉLÉMENT À SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/033828    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/074095
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 18.08.2016
CIB :
H05B 33/14 (2006.01), C09D 11/00 (2014.01), H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : DIC CORPORATION [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP)
Inventeurs : OTSUKI Eiji; (JP).
GOTOU Yuusaku; (JP)
Mandataire : KONO Michihiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-164779 24.08.2015 JP
Titre (EN) INK COMPOSITION FOR ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENTS, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT USING SAME
(FR) COMPOSITION D'ENCRE DESTINÉE À DES ÉLÉMENTS À SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE, ET ÉLÉMENT À SEMI-CONDUCTEUR ORGANIQUE L'UTILISANT
(JA) 有機半導体素子用インク組成物およびこれを用いた有機半導体素子
Abrégé : front page image
(EN)A layer, formed with a coating film having a leveling agent oriented on the surface thereof, has the leveling agent oriented on the surface portion. It has been found that, in such a case, the surface of such a layer has a reduced level of surface energy because of the presence of the leveling agent, and that, as a result, it is impossible or very difficult to form a layer on the layer formed using a leveling agent by a wet film-forming method. The purpose of the present invention is to provide an ink composition for organic semiconductor elements, which allows for the formation of a suitable film even on a layer having low surface energy. The present invention is an ink composition for organic semiconductor elements, which contains a first organic semiconductor element material, a leveling agent, a first solvent, and an aromatic solvent, wherein the leveling agent is a polymer that contains at least a siloxane monomer as a monomer unit, and the first solvent has a surface tension not higher than 25 mN/m.
(FR)Selon la présente invention, une couche, formée avec un film de revêtement comportant un agent de nivellement orienté sur sa surface, comporte l'agent de nivellement orienté sur la partie surface. Il a été découvert que, dans ce cas, la surface d'une telle couche présentait un niveau réduit d'énergie de surface du fait de la présence de l'agent de nivellement, et que, par conséquent, il était impossible ou très difficile de former une couche sur la couche formée à l'aide d'un agent de nivellement par un procédé de formation de film par voie humide. L'objectif de la présente invention est de pourvoir à une composition d'encre pour éléments à semi-conducteur organique, qui permette la formation d'un film approprié même sur une couche ayant une faible énergie de surface. La présente invention concerne une composition d'encre pour éléments à semi-conducteur organique, qui contient un premier matériau d'élément à semi-conducteur organique, un agent de nivellement, un premier solvant et un solvant aromatique, l'agent de nivellement étant un polymère qui contient au moins un monomère siloxane comme unité monomère, et le premier solvant ayant une tension de surface inférieure ou égale à 25 mN/m.
(JA)レベリング剤が表面に配向された塗膜より形成された層の表面部にはレベリング剤が配向されている。そうすると、このような層の表面は、レベリング剤の存在により表面エネルギーが小さくなり、その結果、レベリング剤を用いて形成された層上には、湿式成膜法により層形成をすることができない、または非常にしにくい場合があることが判明した。そこで、本発明は、低表面エネルギー層上であっても好適な膜を形成することができる有機半導体素子用インク組成物を提供することを目的とする。 第1の有機半導体素子材料、レベリング剤、第1の溶媒、および芳香族溶媒を含み、前記レベリング剤が、少なくともシロキサンモノマーを単量体単位として含む重合体であり、前記第1の溶媒の表面張力が25mN/m以下である、有機半導体素子用インク組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)