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1. (WO2017032534) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/032534    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/067867
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 27.07.2016
CIB :
G03F 9/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : TINNEMANS, Patricius, Aloysius, Jacobus; (NL)
Mandataire : SIEM, Max Yoe Shé; (NL)
Données relatives à la priorité :
15182697.1 27.08.2015 EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)An initialization method for a sensor is described, the sensor being configured to perform a plurality of measurements of a property of an object using a respective plurality of different measurement parameters, different ones of the plurality of measurements using different measurement parameters, the method comprising: - estimating a characteristic of the property based on the plurality of measurements, the characteristic comprising a combination of respective outcomes of respective ones of the plurality of measurements weighted by a respective weighting coefficient; - using a plurality of models of the object, each respective one of the models being configured to enable a respective simulation of the performing of the plurality of measurements; - performing, for each of respective one of the plurality of models, a respective simulation, the respective simulation including simulating the plurality of measurements under control of a respective plurality of different simulation parameters to obtain a respective plurality of simulated characteristics of the property, the plurality of different simulation parameters being indicative of the plurality of different measurement parameters; - determining, for each respective one of the plurality of models, a respective bias representative of a respective difference between a respective theoretical characteristic of the property in accordance with the respective model and a respective further combination of the simulated characteristics of the property in the respective model; the respective further combination of the simulated characteristics comprising the plurality of weight coefficients, each particular one of the plurality of weight coefficients being associated with a particular one of the plurality of different simulation parameters; - using a cost function configured to optimize a correspondence between the simulated characteristic of the property and the theoretical characteristic of the property; the cost function being a function of the respective biases of the plurality of models; - optimizing the cost function, thereby deriving the plurality of the weight coefficients from the cost function; - using the weight coefficients and the associated simulation parameters in a controller associated with the sensor.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé d'initialisation pour un capteur, le capteur étant conçu pour réaliser une pluralité de mesures d'une propriété d'un objet à l'aide d'une pluralité respective de paramètres de mesure différents, différentes mesures de la pluralité de mesures utilisant des paramètres de mesure différents. Le procédé consiste : - à évaluer une caractéristique de la propriété sur la base de la pluralité de mesures, la caractéristique comprenant une combinaison de résultats respectifs de mesures respectives de la pluralité de mesures pondérées par un coefficient de pondération respectif ; - à utiliser une pluralité de modèles de l'objet, chaque modèle respectif parmi les modèles étant prévu pour permettre une simulation respective de la réalisation de la pluralité de mesures ; - à effectuer, pour chaque modèle respectif de la pluralité de modèles, une simulation respective, la simulation respective incluant la simulation de la pluralité de mesures sous le contrôle d'une pluralité respective de paramètres de simulation différents afin d'obtenir une pluralité respective de caractéristiques simulées de la propriété, la pluralité de paramètres de simulation différents indiquant la pluralité de paramètres de mesure différents ; - à déterminer, pour chaque modèle respectif de la pluralité de modèles, un écart respectif représentatif d'une différence respective entre une caractéristique théorique respective de la propriété conformément au modèle respectif et une autre combinaison respective des caractéristiques simulées de la propriété dans le modèle respectif, l'autre combinaison respective des caractéristiques simulées incluant la pluralité de coefficients de pondération, chaque coefficient de pondération particulier de la pluralité de coefficients de pondération étant associé à un paramètre particulier de la pluralité de paramètres de simulation différents ; - à utiliser une fonction de coût destinée à optimiser une correspondance entre la caractéristique simulée de la propriété et la caractéristique théorique de la propriété, la fonction de coût dépendant des écarts respectifs de la pluralité de modèles ; - à optimiser la fonction de coût, ce qui permet de déduire de cette fonction de coût la pluralité de coefficients de pondération ; - à utiliser les coefficients de pondération et les paramètres de simulation associés dans un contrôleur associé au capteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)