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1. (WO2017031908) SUBSTRAT MATRICIEL, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2017/031908    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/100199
Date de publication : 02.03.2017 Date de dépôt international : 31.12.2015
CIB :
G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventeurs : ZHANG, Feng; (CN)
Mandataire : CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; Suite 4-1105, No. 87, West 3rd Ring North Rd., Haidian District Beijing 100089 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510536219.8 27.08.2015 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT MATRICIEL, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制作方法和显示装置
Abrégé : front page image
(EN)An array substrate, a preparation method therefor, and a display device. The array substrate comprises: a substrate (100); multiple pixel units, disposed on the substrate (100), each pixel unit comprising multiple functional layers; and light shading assemblies (11), disposed between the adjacent pixel units. Each light shading assembly (11) comprises a light shading layer (11a), a light absorbing layer (11b) covering the light shading layer (11a), and an antireflection layer (11c) covering the light absorbing layer (11b). By arranging antireflection layers (11c) on the light shading assemblies (11), reflection of the light shading assemblies (11) to light of external environment can be reduced, accordingly the display contrast ratio can be improved, and the image display quality can be improved.
(FR)La présente invention concerne un substrat matriciel, son procédé de préparation, et un dispositif d'affichage. Le substrat matriciel comprend : un substrat (100) ; de multiples unités de pixel, disposées sur le substrat (100), chaque unité de pixel comprenant de multiples couches fonctionnelles ; et des ensembles d'ombrage de lumière (11), disposés entre les unités de pixel adjacentes. Chaque ensemble d'ombrage de lumière (11) comprend une couche d'ombrage de lumière (11a), une couche d'absorption de lumière (11b) recouvrant la couche d'ombrage de lumière (11a), et une couche antireflet (11c) recouvrant la couche d'absorption la lumière (11b). En agençant des couches antireflet (11c) sur les ensembles d'ombrage de lumière (11), la réflexion des ensembles d'ombrage de lumière (11) à la lumière de l'environnement extérieur peut être réduite, par conséquent le rapport de contraste d'affichage peut être amélioré, et la qualité d'affichage d'image peut être améliorée.
(ZH)一种阵列基板及其制作方法和显示装置。阵列基板包括:基板(100);多个像素单元,设置在基板(100)上,每个像素单元包括多个功能层;以及遮光组件(11),设置在相邻的像素单元之间。遮光组件(11)包括:遮光层(11a);覆盖在遮光层(11a)上的光吸收层(11b);以及覆盖在光吸收层(11b)上的减反射层(11c)。通过在遮光组件(11)上设置减反射层(11c),可以减少遮光组件(11)对外部环境光的反射,从而能够改善显示对比度,提高画面显示质量。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)