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1. WO2017002828 - DISPOSITIF DE COMMANDE DE TENSION APPLIQUÉE À UN RÉACTEUR À PLASMA ET DISPOSITIF DE COMMANDE DE RÉACTEUR À PLASMA

Numéro de publication WO/2017/002828
Date de publication 05.01.2017
N° de la demande internationale PCT/JP2016/069187
Date du dépôt international 29.06.2016
CIB
H05H 1/24 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
F01N 3/01 2006.1
FMÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
01"MACHINES" OU MACHINES MOTRICES EN GÉNÉRAL; ENSEMBLES FONCTIONNELS DE MACHINES MOTRICES EN GÉNÉRAL; MACHINES À VAPEUR
NSILENCIEUX OU DISPOSITIFS D'ÉCHAPPEMENT POUR "MACHINES" OU MACHINES MOTRICES EN GÉNÉRAL; SILENCIEUX OU DISPOSITIFS D'ÉCHAPPEMENT POUR MOTEURS À COMBUSTION INTERNE
3Silencieux ou dispositifs d'échappement comportant des moyens pour purifier, rendre inoffensifs ou traiter les gaz d'échappement
01au moyen de séparateurs électriques ou électrostatiques
CPC
F01N 3/01
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
01MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
NGAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
3Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
01by means of electric or electrostatic separators
H05H 1/24
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
Déposants
  • ダイハツ工業株式会社 DAIHATSU MOTOR CO., LTD. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 島村 遼一 SHIMAMURA, Ryoichi
  • 下永吉 裕親 SHIMONAGAYOSHI, Hirochika
  • 内藤 一哉 NAITO, Kazuya
  • 間所 和彦 MADOKORO, Kazuhiko
  • 上西 真里 UENISHI, Mari
  • 田中 裕久 TANAKA, Hirohisa
  • 道岡 力 MICHIOKA, Chikara
Mandataires
  • 奥町 哲行 OKUMACHI Tetsuyuki
Données relatives à la priorité
2015-13164830.06.2015JP
2016-03626026.02.2016JP
2016-03626126.02.2016JP
2016-03626226.02.2016JP
Langue de publication Japonais (ja)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PLASMA REACTOR APPLIED VOLTAGE CONTROL DEVICE AND PLASMA REACTOR CONTROL DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE COMMANDE DE TENSION APPLIQUÉE À UN RÉACTEUR À PLASMA ET DISPOSITIF DE COMMANDE DE RÉACTEUR À PLASMA
(JA) プラズマリアクタの印加電圧制御装置及びプラズマリアクタ用制御装置
Abrégé
(EN) [Problem] To provide an applied voltage control device and the like which are capable of controlling, with a high degree of precision, the applied voltage applied between electrodes of a plasma reactor. [Solution] The current output from a pulse generating power source 5 is detected by a current sensor 42, and the values of the detected current are integrated by a current integrating circuit 43. There is a correlation between integrated current value obtained from the integration and the applied voltage value applied between electrodes 23 of a plasma reactor 4, and that relationship is stored in an applied voltage value estimation unit 44. When an integrated current value is obtained, an applied voltage value corresponding to the integrated current value is estimated on the basis of the relationship stored in the applied voltage value estimation unit 44. A power source 31 is then controlled on the basis of the estimated applied voltage value.
(FR) Le problème abordé par la présente invention consiste à fournir un dispositif de commande de tension appliquée et analogues qui sont aptes à commander, avec un degré élevé de précision, la tension appliquée, appliquée entre des électrodes d'un réacteur à plasma. La solution porte sur la sortie de courant à partir d'une source de puissance de génération d'impulsions 5 qui est détectée par un capteur de courant 42, et les valeurs du courant détecté sont intégrées par un circuit d'intégration de courant 43. Il existe une corrélation entre une valeur de courant intégrée obtenue à partir de l'intégration et la valeur de tension appliquée, appliquée entre des électrodes 23 d'un réacteur à plasma 4, et cette relation est mémorisée dans une unité d'estimation de valeur de tension appliquée 44. Lorsqu'une valeur de courant intégrée est obtenue, une valeur de tension appliquée correspondant à la valeur de courant intégrée est estimée sur la base de la relation mémorisée dans l'unité d'estimation de valeur de tension appliquée 44. Une source de puissance 31 est ensuite commandée sur la base de la valeur de tension appliquée estimée.
(JA) 【課題】プラズマリアクタの電極間に印加される印加電圧を精度よく制御できる、印加電圧制御装置等を提供する。 【解決手段】電流センサ42により、パルス発生電源5から出力される電流が検出され、電流積算回路43により、その検出される電流の値が積算される。この積算により得られる積算電流値とプラズマリアクタ4の電極23間に印加される印加電圧値とには相関があり、その関係が印加電圧値推定部44に記憶されている。積算電流値が得られると、印加電圧値推定部44に記憶されている関係に基づいて、積算電流値に応じた印加電圧値が推定される。そして、その推定された印加電圧値に基づいて、電源31が制御される。
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