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1. (WO2017002506) MATÉRIAU D'EMPREINTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2017/002506 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/066010
Date de publication : 05.01.2017 Date de dépôt international : 31.05.2016
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 220/26 (2006.01) ,C08F 283/12 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59
Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02
par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
44
Polymérisation en présence d'additifs, p.ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
26
Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
283
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères prévus par la sous-classe C08G129
12
sur des polysiloxanes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
290
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères modifiés par introduction de groupes aliphatiques non saturés terminaux ou latéraux
02
sur des polymères modifiés par introduction de groupes non saturés terminaux
06
Polymères prévus par la sous-classe C08G54
Déposants :
日産化学工業株式会社 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区神田錦町三丁目7番地1 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054, JP
Inventeurs :
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
鈴木 正睦 SUZUKI, Masayoshi; JP
Mandataire :
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Données relatives à la priorité :
2015-12986129.06.2015JP
Titre (EN) IMPRINT MATERIAL
(FR) MATÉRIAU D'EMPREINTE
(JA) インプリント材料
Abrégé :
(EN) [Problem] To provide a novel imprint material. [Solution] An imprint material which contains the component (A), component (B), component (C) and component (D) described below. (A) a compound represented by formula (1) (B) a compound represented by formula (2) (C) a compound represented by formula (3) (D) a photopolymerization initiator (In the formulae, each R1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms, which may have a hydroxy group as a substituent; m represents 2 or 3; X represents a divalent linking group having an ethylene oxide unit and/or a propylene oxide unit; R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1-3 carbon atoms; n represents 1 or 2; in cases where n is 1, R4 represents an alkyl group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent; and in cases where n is 2, R4 represents an alkylene group having 1-12 carbon atoms, which may be substituted by at least one substituent.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un nouveau matériau d'empreinte. La solution selon l'invention porte sur un matériau d'empreinte qui contient le constituant (A), le constituant (B), le constituant (C) et le constituant (D) décrits ci-après. (A) un composé représenté par la formule (1), (B) un composé représenté par la formule (2), (C) un composé représenté par la formule (3), (D) un initiateur de photopolymérisation, (dans les formules, chaque R1 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; R2 représente un groupe hydrocarboné comportant de 1 à 5 atomes de carbone, qui peut posséder un groupe hydroxy comme substituant ; m équivaut à 2 ou 3 ; X représente un groupe de liaison divalent comportant un motif oxyde d'éthylène et/ou un motif oxyde de propylène ; R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle comportant de 1 à 3 atomes de carbone ; n équivaut à 1 ou 2 ; dans les cas où n équivaut à 1, R4 représente un groupe alkyle comportant de 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant ; et dans les cas où n équivaut à 2, R4 représente un groupe alkylène comportant 1 à 12 atomes de carbone, qui peut être substitué par au moins un substituant).
(JA) 【課題】 新規なインプリント材料を提供すること。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分、(C)成分及び(D)成分を含有するインプリント材料。 (A)下記式(1)で表される化合物 (B)下記式(2)で表される化合物 (C)下記式(3)で表される化合物 (D)光重合開始剤 (式中、Rはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Rは置換基としてヒドロキシ基を有してもよい炭素原子数1乃至5の炭化水素基を表し、mは2又は3を表し、Xはエチレンオキサイドユニット及び/又はプロピレンオキサイドユニットを有する二価の連結基を表し、Rは水素原子又は炭素原子数1乃至3のアルキル基を表し、nは1又は2を表し、nが1を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキル基を表し、nが2を表す場合、Rは、少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数1乃至12のアルキレン基を表す。)
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
CN107710385KR1020180021725JPWO2017002506US20180180999