Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2017002428) PROCÉDÉ DE PROTECTION CONTRE LES IMPULSIONS ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET SYSTÈME DE PROTECTION CONTRE LES IMPULSIONS ÉLECTROMAGNÉTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2017/002428 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/062002
Date de publication : 05.01.2017 Date de dépôt international : 14.04.2016
CIB :
F41H 13/00 (2006.01) ,H05H 1/24 (2006.01)
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
41
ARMES
H
BLINDAGE; TOURELLES CUIRASSÉES; VÉHICULES BLINDÉS OU ARMÉS; MOYENS D'ATTAQUE OU DE DÉFENSE, p.ex. CAMOUFLAGE, EN GÉNÉRAL
13
Moyens d'attaque ou de défense non prévus ailleurs
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
Déposants :
三菱重工業株式会社 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目16番5号 16-5, Konan 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1088215, JP
Inventeurs :
西方 伸吾 NISHIKATA Shingo; JP
黒田 能克 KURODA Yoshikatsu; JP
池淵 博 IKEBUCHI Hiroshi; JP
濱本 浩一 HAMAMOTO Koichi; JP
森岡 朋也 MORIOKA Tomoya; JP
落合 敦司 OCHIAI Atsushi; JP
Mandataire :
工藤 実 KUDOH Minoru; JP
Données relatives à la priorité :
2015-13162630.06.2015JP
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC PULSE PROTECTION METHOD AND ELECTROMAGNETIC PULSE PROTECTION SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE PROTECTION CONTRE LES IMPULSIONS ÉLECTROMAGNÉTIQUES ET SYSTÈME DE PROTECTION CONTRE LES IMPULSIONS ÉLECTROMAGNÉTIQUES
(JA) 電磁パルス防護方法及び電磁パルス防護システム
Abrégé :
(EN) An electromagnetic pulse protection method comprising: a search step in which searches are conducted for threats 2 that generate an electromagnetic pulse 2a; and a generation step in which laser light 5 is focused on a focal point 4 and plasma 6 is generated at the focal point 4, if a threat 2 is found in the search step. As a result, a variety of objects to be protected, including objects to be protected for which electrical openings are indispensable can be protected from electromagnetic pulse attacks.
(FR) L'invention concerne un procédé de protection contre les impulsions électromagnétiques comprenant : une étape de recherche consistant à effectuer des recherches pour des menaces (2) qui génèrent une impulsion électromagnétique (2a) ; et une étape de génération consistant à focaliser une lumière laser (5) sur un point focal (4) et à générer un plasma (6) au niveau du point focal (4), si une menace (2) est trouvée lors de l'étape de recherche. Ainsi, diverses cibles de protection, dont des cibles de protection qui nécessitent des ouvertures électriques, sont protégées contre des attaques par impulsion électromagnétique.
(JA) 電磁パルス防護方法が、電磁パルス2aを発生する脅威2を捜索する捜索ステップと、捜索ステップにおいて脅威2を探知したとき、集光点4にレーザ光5を集光して集光点4においてプラズマ6を発生する発生ステップとを具備する。これにより、電気的な開口が不可欠な防護対象を含む様々な防護対象を電磁パルスによる攻撃から防護する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
EP3267142US20180092195