Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2017001135) SUPPORT DE SUBSTRAT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2017/001135 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/062371
Date de publication : 05.01.2017 Date de dépôt international : 01.06.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/687 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
687
en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
POIESZ, Thomas; NL
HOUBEN, Martijn; NL
SOETHOUDT, Abraham, Alexander; NL
Mandataire :
KETTING, Alfred; NL
Données relatives à la priorité :
15175082.502.07.2015EP
Titre (EN) A SUBSTRATE HOLDER, A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICES
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abrégé :
(EN) A substrate holder for use in a lithographic apparatus and configured to support a substrate, the substrate holder comprising: a main body having a main body surface; and a plurality of burls projecting from the main body surface; wherein each burl has a distal end configured to engage with the substrate; the distal ends of the burls substantially conform to a support plane whereby a substrate can be supported in a substantially flat state on the burls; a frictional force between the distal end of each burl and a substrate engaged therewith arises in a direction parallel to the support plane in the event of a relative movement of the substrate and substrate holder in the direction; and distal end surfaces of the burls are provided with a release structure configured so that the frictional force is less than would arise in the absence of the release structure.
(FR) L'invention concerne un support de substrat destiné à être utilisé dans un appareil lithographique et configuré pour supporter un substrat, le support de substrat comprenant : un corps principal ayant une surface de corps principal; et une pluralité de nopes faisant saillie depuis la surface du corps principal. Chaque nope possède une extrémité distale configurée pour venir en prise avec le substrat. Les extrémités distales des nopes se conforment sensiblement à un plan de support, moyennant quoi un substrat peut être supporté dans un état sensiblement plat sur les nopes. Une force de frottement entre l'extrémité distale de chaque nope et un substrat en prise avec celle-ci se produit dans une direction parallèle au plan de support dans le cas d'un mouvement relatif du substrat et du support de substrat dans la direction. Les surfaces d'extrémité distale des nopes sont pourvues d'une structure de libération configurée de telle sorte que la force de frottement est inférieure à celle qui se produirait en l'absence de la structure de libération.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP3317726US20180190534JP2018521344