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1. (WO2017001124) SYSTÈME DE MESURE DE POSITION ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2017/001124 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/061901
Date de publication : 05.01.2017 Date de dépôt international : 26.05.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G01B 9/02 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
9
Instruments tels que spécifiés dans les sous-groupes et caractérisés par l'utilisation de moyens de mesure optiques
02
Interféromètres
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
VAN DER PASCH, Engelbertus, Antonius, Fransiscus; NL
EUSSEN, Emiel, Jozef, Melanie; NL
VAN LEEUWEN, Robbert, Edgar; NL
Mandataire :
RAS, Michael; NL
Données relatives à la priorité :
15174594.030.06.2015EP
Titre (EN) POSITION MEASUREMENT SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE MESURE DE POSITION ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) The invention relates to a position measurement system to measure a position of an object (OB) relative to a reference, comprising two interferometers (IF1, IF2), wherein each interferometer is configured to form a reference beam (40) and a measurement beam (20) from input radiation (10) and to combine the reference beam and the measurement beam to provide output radiation to be delivered to a detector (SD), wherein each interferometer is configured such that the reference beam is formed by reflection of input radiation from a reflective element (RE1, RE2), and such that the measurement beam is formed by diffraction of input radiation from a grating (GR) on the object, and wherein the reference beam and the measurement beam are parallel to each other.
(FR) L'invention concerne un système de mesure de position pour mesurer une position d'un objet (OB) par rapport à une référence, comprenant deux interféromètres (IF1, IF2), chaque interféromètre étant configuré pour former un faisceau de référence (40) et un faisceau de mesure (20) provenant d'un rayonnement d'entrée (10) et combiner le faisceau de référence et le faisceau de mesure pour fournir un rayonnement de sortie à délivrer à un détecteur (SD), chaque interféromètre étant configuré de telle sorte que le faisceau de référence est formé par réflexion d'un rayonnement d'entrée provenant d'un élément réfléchissant (RE1, RE2), et de telle sorte que le faisceau de mesure est formé par diffraction d'un rayonnement d'entrée provenant d'un réseau (GR) sur l'objet, et le faisceau de référence et le faisceau de mesure étant parallèles l'un à l'autre.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP3317725US20180364594