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1. (WO2016210314) COMPOSITIONS DE FLUOROPOLYMÈRE RÉTICULÉ PAR RAYONNEMENT CONTENANT UN FAIBLE TAUX DE FLUORURES EXTRACTIBLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/210314    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/039337
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 24.06.2016
CIB :
C08K 3/22 (2006.01), C08K 5/00 (2006.01), C08J 3/24 (2006.01), C08J 7/12 (2006.01), C08J 3/22 (2006.01), H01B 3/44 (2006.01), C08J 3/28 (2006.01)
Déposants : DAIKIN AMERICA, INC. [US/US]; 20 Olympic Drive Orangeburg, New York 10962 (US)
Inventeurs : SHIH, Keith S.; (US).
HENDERSHOT, Ronald E.; (US).
LIN, George; (US)
Mandataire : LANDAU, Nicholas J.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/751,345 26.06.2015 US
Titre (EN) RADIATION CROSSLINKED FLUOROPOLYMER COMPOSITIONS CONTAINING LOW LEVEL OF EXTRACTABLE FLUORIDES
(FR) COMPOSITIONS DE FLUOROPOLYMÈRE RÉTICULÉ PAR RAYONNEMENT CONTENANT UN FAIBLE TAUX DE FLUORURES EXTRACTIBLES
Abrégé : front page image
(EN)A composition for manufacturing a crosslinked ethylene tetrafluoroethylene (ETFE) copolymer with enhanced abrasion resistance and heat resistance is provided, the composition including ETFE, about 0.1-10% w/w of a metal oxide that effectively scavenges high levels of fluoride ions; and a crosslinking agent. Methods of using and making the composition are also provided.
(FR)L'invention concerne une composition pour la fabrication d'un copolymère d'éthylène tétrafluoroéthylène (ETFE) présentant une résistance à l'abrasion et une résistance à la chaleur accrues, la composition comprenant de l'ETFE, environ 0,1 à 10 % poids/poids d'un oxyde métallique qui capte de manière efficace des niveaux élevés d'ions fluorure; et un agent de réticulation. L'invention concerne en outre des procédés d’utilisation et de production de la composition.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)