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1. (WO2016209690) MEMBRANES DE POLYIMIDE À HAUTE SÉLECTIVITÉ RÉTICULÉES CHIMIQUEMENT ET PAR UV POUR SÉPARATIONS DE GAZ
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N° de publication : WO/2016/209690 N° de la demande internationale : PCT/US2016/037745
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 16.06.2016
CIB :
C08G 73/10 (2006.01) ,B01D 71/64 (2006.01) ,B01D 67/00 (2006.01)
Déposants : UOP LLC[US/US]; 25 East Algonquin Road P. O. Box 5017 Des Plaines, Illinois 60017-5017, US
Inventeurs : LIU, Chunqing; US
TRAN, Howie Q.; US
Mandataire : ROMANO, Ashley E.; US
Données relatives à la priorité :
62/184,53725.06.2015US
Titre (EN) CHEMICALLY AND UV CROSS-LINKED HIGH SELECTIVITY POLYIMIDE MEMBRANES FOR GAS SEPARATIONS
(FR) MEMBRANES DE POLYIMIDE À HAUTE SÉLECTIVITÉ RÉTICULÉES CHIMIQUEMENT ET PAR UV POUR SÉPARATIONS DE GAZ
Abrégé :
(EN) This invention discloses a membrane composition, a method of making, and applications for a new type of high selectivity, high plasticization-resistant and solvent-resistant, both chemically and UV cross-linked polyimide membranes. Gas permeation tests on these membranes demonstrated that they not only showed high selectivities, but also showed extremely high CO2 plasticization resistance under CO2 pressure up to 4923 kPa (700 psig). This new type of high selectivity, high plasticization-resistant and solvent-resistant, both chemically and UV cross-linked polyimide membranes can be used for a wide range of gas separations such as separations of H2 / CH4, He/CH4, CO2 / CH4, CO2 / N2, olefin/paraffin separations (e.g. propylene/propane separation), O2 / N2, iso/normal paraffins, polar molecules such as H2O, H2S, and NH3 mixtures with CH4, N2, H2, and other light gases separations. The membranes can also be used for liquid separations such as in the removal of organic compounds from water.
(FR) La présente invention concerne une composition de membranes, un procédé de fabrication, et des applications pour un nouveau type de membranes de polyimide à haute sélectivité, à haute résistance à la plastification et résistance au solvant, réticulées chimiquement et par UV. Des essais de perméation de gaz sur ces membranes ont démontré qu’elles présentent non seulement des sélectivités élevées, mais présentent également une résistance à la plastification par CO2 extrêmement élevée sous une pression de CO2 allant jusqu’à 4923 kPa (700 psig). Ce nouveau type de membranes de polyimide à haute sélectivité, à haute résistance à la plastification et résistance au solvant, réticulées chimiquement et par UV peut être utilisé pour une large gamme de séparations de gaz telles que des séparations de H2 / CH4, He/CH4, CO2 / CH4, CO2 / N2, des séparations d’oléfine/paraffine (par exemple, une séparation de propylène/propane), O2 / N2, des isoparaffines / paraffines normales, de molécules polaires telles que des mélanges de H2O, H2S et NH3 avec CH4, N2, H2 et d’autres séparations de gaz légers. Les membranes peuvent également être utilisées pour des séparations de liquides, par exemple dans l'élimination de composés organiques dans de l’eau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)