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1. (WO2016208792) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TEXTURATION À GRANDE VITESSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/208792    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/006629
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 29.06.2015
CIB :
H01L 31/0236 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : COWINDST CO., LTD. [KR/KR]; 77, Dongpyeon-ro, Dongan-gu Anyang-si Gyeonggi-do 431-815 (KR)
Inventeurs : LEE, Chun Jae; (KR).
PARK, Hoon; (KR).
PARK, Jae Woong; (KR)
Mandataire : KIM, In Han; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2015-0091448 26.06.2015 KR
Titre (EN) HIGH-SPEED TEXTURING METHOD AND SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TEXTURATION À GRANDE VITESSE
(KO) 고속 텍스쳐링 방법 및 시스템
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a high-speed texturing system comprising: a substrate adsorption porous chuck on which a wafer is disposed; a transfer unit for transferring the substrate adsorption porous chuck; a wafer inspection device for scanning the surface of the wafer on the substrate adsorption porous chuck being transferred; a high-speed surface processing device for processing the scanned surface of the wafer by a laser and supplying a purge gas to remove a processing by-product; and a wafer cleaning device for cleaning the processed wafer.
(FR)La présente invention concerne un système de texturation à grande vitesse comportant: un plateau poreux d'adsorption de substrat sur lequel est disposée une tranche; une unité de transfert servant à transférer le plateau poreux d'adsorption de substrat; un dispositif d'inspection de tranche servant à balayer la surface de la tranche sur le plateau poreux d'adsorption de substrat en cours de transfert; un dispositif de traitement de surface à grande vitesse servant à traiter la surface balayée de la tranche au moyen d'un laser et à amener un gaz de purge pour éliminer un sous-produit de traitement; et un dispositif de nettoyage de tranche servant à nettoyer la tranche traitée.
(KO)본 발명은 고속 텍스쳐링 시스템에 관한 것으로, 웨이퍼가 배치되는 기판 흡착 다공질 척; 상기 기판 흡착 다공질 척을 이송하는 이송부; 상기 이송되는 기판 흡착 다공질 척 상의 상기 웨이퍼의 표면을 스캐닝하는 웨이퍼 검사 장치; 상기 스캐닝한 웨이퍼의 표면을 레이저로 가공하고, 퍼지 가스를 공급하여 가공 부산물을 제거하는 고속 표면 가공 장치; 및 상기 가공된 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 세정 장치;를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)