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1. (WO2016208723) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ANALYSE DE DISPERSOÏDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/208723    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/068849
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 24.06.2016
CIB :
G01N 27/76 (2006.01)
Déposants : KAWANO LAB. INC. [JP/JP]; 2-12-9, Ishibashi, Ikeda-shi, Osaka 5630032 (JP)
Inventeurs : KAWANO Makoto; (JP)
Mandataire : MAEI Hiroyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-127825 25.06.2015 JP
Titre (EN) DISPERSOID ANALYSIS METHOD AND ANALYSIS DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ANALYSE DE DISPERSOÏDES
(JA) 分散質分析方法、および分析装置
Abrégé : front page image
(EN)First, the present invention obtains the bulk magnetic susceptibility (χs) of a dispersoid (s) in a dispersion medium (m) by using the magnetophoresis method. Next, the present invention analyzes the affinity of the dispersoid (s) for the dispersion medium (m) by using the bulk magnetic susceptibility (χs) of the dispersoid (s) and the bulk magnetic susceptibility (χm) of the medium (m).
(FR)La présente invention permet d'abord d'obtenir la susceptibilité magnétique en vrac (χs) d'un dispersoïde (s) dans un milieu de dispersion (m) à l'aide d'un procédé de magnétophorèse. La présente invention analyse ensuite l'affinité du dispersoïde (s) pour le milieu de dispersion (m) en utilisant la susceptibilité magnétique en vrac (χs) du dispersoïde (s) et la susceptibilité magnétique en vrac (χm) du milieu (m).
(JA)まず、磁気泳動法により、分散媒(m)中における分散質(s)の体積磁化率(χs)を取得する。次いで、分散質(s)の体積磁化率(χs)と分散媒(m)の体積磁化率(χm)とにより、分散媒(m)に対する分散質(s)の親和性を分析する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)