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1. (WO2016208609) SUBSTRAT CONDUCTEUR

Pub. No.:    WO/2016/208609    International Application No.:    PCT/JP2016/068463
Publication Date: Fri Dec 30 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Thu Jun 23 01:59:59 CEST 2016
IPC: C25D 5/56
B32B 7/02
B32B 15/20
C25D 3/38
H01B 5/14
Applicants: SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
住友金属鉱山株式会社
Inventors: NISHIYAMA, Yoshihide
西山 芳英
Title: SUBSTRAT CONDUCTEUR
Abstract:
L'invention concerne un substrat conducteur ayant un substrat transparent et une couche de cuivre formée sur au moins une surface du substrat transparent. La couche de cuivre a une valeur de résistance de surface inférieure ou égale à 0,07 Ω/□ lorsque l'épaisseur de film de la couche de cuivre est de 0,5 µm.