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1. (WO2016208445) PROCÉDÉ DE POLISSAGE, COMPOSITION POUR L'ÉLIMINATION D'IMPURETÉS, SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Pub. No.:    WO/2016/208445    International Application No.:    PCT/JP2016/067570
Publication Date: Fri Dec 30 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Tue Jun 14 01:59:59 CEST 2016
IPC: H01L 21/304
B24B 37/04
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
Inventors: ISHIDA Yasuto
石田 康登
Title: PROCÉDÉ DE POLISSAGE, COMPOSITION POUR L'ÉLIMINATION D'IMPURETÉS, SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract:
L'invention concerne un procédé de polissage permettant d'éliminer suffisamment d'impuretés présentes sur un objet à polir. Un objet à polir, qui comprend un film organique sur sa surface, est poli à l'aide d'une composition de polissage qui contient des grains abrasifs, et est ensuite poli à l'aide d'une composition d'élimination d'impuretés qui contient un composé organique destiné à éliminer les impuretés présentes sur l'objet à polir. Le composé organique contient un agent tensioactif et/ou un polymère hydrosoluble. L'agent tensioactif contient un groupe hydrophile et un groupe hydrophobe qui comprend un groupe hydrocarboné d'au moins 3 atomes de carbone, et la chaîne principale du polymère hydrosoluble est hydrophobe.