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1. (WO2016208273) APPAREIL DE TRAITEMENT DE GAZ D’ÉCHAPPEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/208273    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/063301
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 27.04.2016
CIB :
B01D 53/50 (2006.01), B01D 53/18 (2006.01), B01D 53/78 (2006.01), B01D 53/92 (2006.01), F01N 3/04 (2006.01)
Déposants : FUJI ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Tanabeshinden, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2109530 (JP)
Inventeurs : KOMATSU Tadashi; (JP).
TAKAHASHI Kuniyuki; (JP)
Mandataire : RYUKA IP LAW FIRM; 22F, Shinjuku L Tower, 1-6-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1631522 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-128866 26.06.2015 JP
Titre (EN) EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE GAZ D’ÉCHAPPEMENT
(JA) 排ガス処理装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention reduces the amount of excess absorbing liquid not contributing to absorption of a sulfurous-acid gas in the upper portion of a reaction column, and overcomes any deficit in the absorbing liquid in the lower portion of the reaction tower. Provided is an exhaust gas treatment apparatus for treating exhaust gas, wherein the exhaust gas treatment apparatus is provided with a reaction column into which exhaust gas is introduced, a stem pipe through which a liquid for treating the exhaust gas is supplied, and a plurality of injection parts for injecting the liquid supplied from the stem pipe; the plurality of injection parts being provided at differing positions along the height direction of the reaction tower from the bottom-portion side at which the exhaust gas is introduced to the upper-portion side at which the exhaust gas is discharged, and the flow rate of the liquid injected from the upper-portion-side injection parts being less than the flow rate of the liquid injected from the bottom-portion-side injection parts.
(FR)La présente invention réduit la quantité de liquide absorbant en excès ne contribuant pas à l'absorption d'un gaz d'acide sulfureux dans la partie supérieure d'une colonne de réaction, et surmonte tout déficit de liquide absorbant dans la partie inférieure de la tour de réaction. L'invention concerne un appareil de traitement de gaz d'échappement destiné au traitement d'un gaz d'échappement, l'appareil de traitement de gaz d'échappement comportant une colonne de réaction dans laquelle est introduit un gaz d'échappement, un tuyau de tige à travers lequel un liquide destiné au traitement du gaz d'échappement est fourni, et une pluralité de parties d'injection pour injecter le liquide fourni depuis le tuyau de tige ; la pluralité de parties d'injection étant fournie à des positions différentes le long de la direction en hauteur de la tour de réaction depuis le côté partie inférieure au niveau duquel le gaz d'échappement est introduit jusqu'au côté partie supérieure au niveau duquel le gaz d'échappement est évacué, et le débit du liquide injecté des parties d'injection côté partie supérieure étant inférieur au débit du liquide injecté à partir des parties d'injection côté partie inférieure.
(JA)反応塔の上部において亜硫酸ガスの吸収に寄与しない余分な吸収液を減らし、反応塔の下部において吸収液の不足を解消する。排ガスを処理する排ガス処理装置であって、排ガスが導入される反応塔と、反応塔の内部に設けられ、排ガスを処理する液体が供給される幹管と、幹管から供給される液体を噴射する複数の噴射部とを備え、排ガスが導入される底部側から排ガスが排出される上部側における反応塔の高さ方向において、複数の噴射部は異なる位置に設けられ、上部側の噴射部から噴射される液体の流量は、底部側の噴射部から噴射される液体の流量よりも少ない排ガス処理装置を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)