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1. (WO2016208160) APPAREIL D’IMPRESSION, PROCÉDÉ D’IMPRESSION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’ARTICLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/208160 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/002908
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 16.06.2016
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
29
TRAVAIL DES MATIÈRES PLASTIQUES; TRAVAIL DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL
C
FAÇONNAGE OU ASSEMBLAGE DES MATIÈRES PLASTIQUES; FAÇONNAGE DES SUBSTANCES À L'ÉTAT PLASTIQUE EN GÉNÉRAL; POST-TRAITEMENT DES PRODUITS FAÇONNÉS, p.ex. RÉPARATION
59
Façonnage de surface, p.ex. gaufrage; Appareils à cet effet
02
par des moyens mécaniques, p.ex. par pressage
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
Inventeurs : FURUKAWA, Hiroaki; JP
Mandataire : OHTSUKA, Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2015-12511622.06.2015JP
2016-11915115.06.2016JP
Titre (EN) IMPRINT APPARATUS, IMPRINT METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
(FR) APPAREIL D’IMPRESSION, PROCÉDÉ D’IMPRESSION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’ARTICLE
Abrégé :
(EN) An imprint apparatus brings a pattern region of a mold held by a mold holder into contact with an imprint material supplied onto a substrate held by a substrate holder and cures the imprint material. The apparatus includes a rotation mechanism configured to rotate the substrate, and a conveying mechanism configured to convey the substrate from the rotation mechanism to the substrate holder. The conveying mechanism conveys the substrate to the substrate holder after the rotation mechanism rotates the substrate in accordance with a rotation error in the pattern region in a state that the mold holder holds the mold (S510-S540).
(FR) L’invention concerne un appareil d’impression qui met en contact une zone de motif d’un moule maintenu par un porte-moule avec un matériau d’impression appliqué sur un substrat maintenu par un porte-substrat et qui cuit le matériau d’impression. L’appareil inclut un mécanisme de rotation servant à faire tourner le substrat, et un mécanisme de transport servant à transporter le substrat du mécanisme de rotation au porte-substrat. Le mécanisme de transport transporte le substrat vers le porte-substrat après que le mécanisme de rotation a tourné le substrat en fonction d’une erreur de rotation dans la zone de motif dans un état où le porte-moule porte le moule (S510-S540).
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)