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1. (WO2016207660) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR RÉDUIRE LE RENDEMENT PHOTOÉLECTRONIQUE ET/OU LE RENDEMENT D'ÉLECTRONS SECONDAIRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2016/207660 N° de la demande internationale : PCT/GB2016/051909
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 24.06.2016
CIB :
B23K 26/00 (2014.01) ,B23K 26/0622 (2014.01) ,B23K 26/082 (2014.01) ,B23K 26/352 (2014.01) ,B23K 103/04 (2006.01) ,B23K 103/10 (2006.01) ,B23K 103/12 (2006.01) ,B23K 103/14 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF DUNDEE[GB/GB]; Nethergate Dundee DD1 4HN, GB
Inventeurs : ABDOLVAND, Amin; GB
Mandataire : HARGREAVES, Timothy Edward; GB
Données relatives à la priorité :
1511153.724.06.2015GB
1511154.524.06.2015GB
1517232.330.09.2015GB
1517235.630.09.2015GB
1603991.908.03.2016GB
Titre (EN) METHOD OF, AND APPARATUS FOR, REDUCING PHOTOELECTRON YIELD AND/OR SECONDARY ELECTRON YIELD
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR RÉDUIRE LE RENDEMENT PHOTOÉLECTRONIQUE ET/OU LE RENDEMENT D'ÉLECTRONS SECONDAIRES
Abrégé : front page image
(EN) A method of reducing photoelectron yield (PEY) and/or secondary electron yield (SEY) of a surface of a target (10), comprises applying laser radiation to the surface of the target (10) to produce a periodic arrangement of structures on the surface, wherein the laser radiation comprises pulsed laser radiation comprising a series of laser pulses and the power density of the pulses is in a range 0.01 TW/cm2 to 3 TW/cm2, optionally 0.1 TW/cm2 to 3 TW/cm2.
(FR) L'invention concerne un procédé pour réduire le rendement photoélectronique (PEY) et/ou le rendement d'électrons secondaires (SEY) d'une surface d'une cible (10), lequel procédé consiste à appliquer un rayonnement de laser sur la surface de la cible (10) pour produire un agencement périodique de structures sur la surface, le rayonnement de laser comprenant un rayonnement de laser pulsé comprenant une série d'impulsions de laser, et la densité de puissance des impulsions étant dans une plage de 0,01 TW/cm2 à 3 TW/cm2, et, éventuellement, de 0,1 TW/cm2 à 3 TW/cm2.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)