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1. (WO2016207401) PIÈGE DE DÉPÔT À MEMS POUR LA PROTECTION D'UN TRANSDUCTEUR DE VIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/207401    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/064750
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 24.06.2016
CIB :
B01D 46/00 (2006.01)
Déposants : MICROGAUGE AG [CH/CH]; c/o ETH Zürich Professur für Mikro- und Nanosysteme Tannenstr. 3, CLA G 3 8092 Zürich (CH)
Inventeurs : WOJTAS, Nina; (CH)
Mandataire : MÜLLER HOFFMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; St.-Martin-Strasse 58 81541 München (DE)
Données relatives à la priorité :
15174068.5 26.06.2015 EP
Titre (EN) MEMS DEPOSITION TRAP FOR VACUUM TRANSDUCER PROTECTION
(FR) PIÈGE DE DÉPÔT À MEMS POUR LA PROTECTION D'UN TRANSDUCTEUR DE VIDE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a MEMS deposition trap (10) comprising: a manifold layer having manifold inlet channels and manifold outlet channels, a microchannel layer (20) having microchannels (33), wherein the manifold layer and the microchannel layer are bonded together so as to form a fluid path, wherein a fluid is forced to pass through the microchannels (33) when flowing from the manifold inlet channels to the manifold outlet channels. Furthermore, it relates to a vacuum sensor having such a deposition trap as and to a process chamber of a manufacturing equipment, preferably used for thin-film deposition or etching processes, comprising such a vacuum sensor.
(FR)La présente invention concerne un piège (10) de dépôt à MEMS comprenant : une couche de collecteur comportant des canaux d'entrée de collecteur et des canaux de sortie de collecteur, une couche (20) à microcanaux comportant des microcanaux (33), ladite couche de collecteur et ladite couche à microcanaux étant reliées l'une à l'autre de façon à former un trajet de fluide, un fluide étant forcé à passer à travers les microcanaux (33) lorsqu'il s'écoule des canaux d'entrée de collecteur vers les canaux de sortie de collecteur. De plus, l'invention concerne un capteur de vide doté d'un tel piège de dépôt et une chambre de traitement d'un équipement de fabrication, utilisée de préférence pour des procédés de dépôt en couche mince ou de gravure, comprenant un tel capteur de vide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)