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1. (WO2016207129) ELÉMENT COMPOSITE COMPRENANT UN MATÉRIAU BIPHASIQUE À BASE DE SILICE ET DE NANOTUBES DE CARBONE
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N° de publication : WO/2016/207129 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/064244
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 21.06.2016
CIB :
C01B 31/02 (2006.01) ,B60C 1/00 (2006.01) ,C08F 279/00 (2006.01)
Déposants : LUXEMBOURG INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY (LIST)[LU/LU]; 5, avenue des Hauts-Fourneaux 4362 Esch/Alzette, LU
Inventeurs : ARL, Didier; FR
LENOBLE, Damien; BE
SARR, Mouhamadou Moustapha; FR
Mandataire : LECOMTE & PARTNERS SÀRL; B.P. 1623 1016 Luxembourg, LU
Données relatives à la priorité :
15173721.024.06.2015EP
Titre (EN) COMPOSITE ELEMENT COMPRISING A BIPHASIC SILICA- AND CARBON NANOTUBE-BASED MATERIAL
(FR) ELÉMENT COMPOSITE COMPRENANT UN MATÉRIAU BIPHASIQUE À BASE DE SILICE ET DE NANOTUBES DE CARBONE
Abrégé : front page image
(EN) The invention relates to a composite material comprising at least one polymer matrix. Said polymer matrix comprises at least one inorganic filler composed of a biphasic material comprising at least one mesoporous substrate that is at least partially covered with carbon nanotubes. The composite material is characterised in that said mesoporous substrate is composed of diatoms.
(FR) L'invention a trait à un matériau composite comprenant au moins une matrice de polymère. Ladite matrice de polymère comprend au moins une charge inorganique composée d'un matériau biphasé qui comprend au moins un substrat mésoporeux au moins partiellement recouvert de nanotubes de carbone. Le matériau composite est remarquable en ce que ledit substrat mésoporeux est composé de diatomées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)