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1. (WO2016206839) SUPPORT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE COMPENSATION D'IRRÉGULARITÉ DE SURFACE SUPÉRIEURE DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/206839    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/059519
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 28.04.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : POIESZ, Thomas; (NL)
Mandataire : KETTING, Alfred; (NL)
Données relatives à la priorité :
15173172.6 22.06.2015 EP
Titre (EN) SUBSTRATE SUPPORT, METHOD OF COMPENSATING UNFLATNESS OF AN UPPER SURFACE OF A SUBSTRATE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE COMPENSATION D'IRRÉGULARITÉ DE SURFACE SUPÉRIEURE DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a substrate support (1), comprising: • a support body (2) forming a support surface configured to support a substrate, wherein said support surface comprises a support surface part configured to support a substrate area of the substrate, • at least one actuator (6) arranged on the support body at a location aligned with the support surface part and configured to contract or extend in a direction substantially parallel to a main plane of the support surface,
(FR)La présente invention concerne un support de substrat (1), comprenant : • un corps de support (2) formant une surface de support conçue pour maintenir un substrat, ladite surface de support comprenant une partie de surface de support conçue pour maintenir une zone de substrat du substrat, • au moins un actionneur (6) disposé sur le corps de support à un emplacement aligné avec la partie de surface de support et conçu pour se rétracter ou se déployer dans une direction sensiblement parallèle à un plan principal de la surface de support.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)