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1. (WO2016206809) STRUCTURE DE PIXELS PHOTOSENSIBLES AYANT UNE ABSORPTION DE LUMIÈRE ACCRUE ET IMPLANT PHOTOSENSIBLE
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N° de publication : WO/2016/206809 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/001073
Date de publication : 29.12.2016 Date de dépôt international : 23.06.2016
CIB :
A61N 1/05 (2006.01) ,A61N 1/36 (2006.01) ,A61F 2/14 (2006.01) ,A61F 9/08 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
Déposants : PIXIUM VISION SA[FR/FR]; 74 Rue du Faubourg Saint Antoine 75012 Paris, FR
Inventeurs : DETERRE, Martin; FR
Mandataire : GRAF VON STOSCH, Andreas; Graf von Stosch Patentanwaltsgesellschaft mbH Prinzregentenstrasse 22 80538 München, DE
Données relatives à la priorité :
15001873.724.06.2015EP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE PIXEL STRUCTURE WITH INCREASED LIGHT ABSORPTION AND PHOTOSENSITIVE IMPLANT
(FR) STRUCTURE DE PIXELS PHOTOSENSIBLES AYANT UNE ABSORPTION DE LUMIÈRE ACCRUE ET IMPLANT PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN) The present invention refers to a photosensitive pixel structure (10) comprising a substrate (15) with a front surface and a back surface, wherein at least one photosensitive diode (12, 12') is provided on one of the surfaces of the substrate (15). A first material layer (30) is provided at least partially on the back surface of the substrate (15), wherein the material layer (30) comprises a reflective layer, in order to increase a reflectivity at the back surface of the substrate. Further, the present invention refers to an array (1) and an implant comprising such a photosensitive pixel structure (10), as well as to a method to produce the pixel structure (10).
(FR) La présente invention se rapporte à une structure de pixels photosensibles (10) comprenant un substrat (15) avec une surface avant et une surface arrière, au moins une diode photosensible (12, 12') étant prévue sur l'une des surfaces du substrat (15). Une première couche de matériau (30) est fournie au moins partiellement sur la surface arrière du substrat (15), la couche de matériau (30) comprenant une couche réfléchissante, de manière à augmenter une réflectivité au niveau de la surface arrière du substrat. En outre, la présente invention se rapporte à un réseau (1) et à un implant comprenant une telle structure de pixels photosensibles (10), ainsi qu'un procédé pour produire la structure de pixels (10).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)