WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016205719) FABRICATION D’ADDITIFS AU MOYEN DE COMPACTAGE ÉLECTROSTATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2016/205719 N° de la demande internationale : PCT/US2016/038193
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 17.06.2016
CIB :
B29C 67/00 (2006.01) ,B33Y 30/00 (2015.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 50/02 (2015.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC.[US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs : SWAMINATHAN, Bharath; US
JOSHI, Ajey M.; US
PATIBANDLA, Nag B.; US
NG, Hou T.; US
KUMAR, Ashavani; US
NG, Eric; US
FREY, Bernard; US
KRISHNAN, Kasiraman; US
Mandataire : GOREN, David J.; US
Données relatives à la priorité :
62/182,38819.06.2015US
Titre (EN) ADDITIVE MANUFACTURING WITH ELECTROSTATIC COMPACTION
(FR) FABRICATION D’ADDITIFS AU MOYEN DE COMPACTAGE ÉLECTROSTATIQUE
Abrégé : front page image
(EN) An additive manufacturing system includes a platen, a dispenser apparatus configured to deliver a layer of powder onto the platen or a previously dispensed layer on the platen, a voltage source coupled to the platen and configured to apply a voltage to the platen to create an electrostatic attraction of the powder to the platen sufficient to compact the powder, and an energy source configured to apply sufficient energy to the powder to fuse the powder.
(FR) L’invention concerne un système de fabrication d'additifs comprenant un plateau, un appareil distributeur conçu pour distribuer une couche de poudre sur le plateau ou une couche précédemment distribuée sur le plateau, une source de tension couplée au plateau et conçue pour appliquer une tension au plateau pour créer une attraction électrostatique de la poudre au plateau suffisante pour compacter la poudre, et une source d'énergie conçue pour appliquer suffisamment d'énergie à la poudre pour faire fondre la poudre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)