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1. (WO2016205672) ABSORBEURS SOLAIRES SÉLECTIFS AVEC UN DÉFICIT EN OXYGÈNE RÉGLÉ ET PROCÉDÉS DE FABRICATION DE CEUX-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2016/205672 N° de la demande internationale : PCT/US2016/038112
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 17.06.2016
CIB :
F24J 2/48 (2006.01) ,G02B 1/11 (2015.01) ,G02B 1/115 (2015.01) ,G02B 5/22 (2006.01) ,G02B 19/00 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF HOUSTON SYSTEM[US/US]; 4800 Calhoun Road Houston, Texas 77004, US
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY[US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, Massachusetts 02142-1324, US
Inventeurs : REN, Zhifeng; US
CAO, Feng; US
KRAEMER, Daniel; US
CHEN, Gang; US
Mandataire : FALESKI, Thaddeus J.; US
Données relatives à la priorité :
62/182,32519.06.2015US
Titre (EN) SELECTIVE SOLAR ABSORBERS WITH TUNED OXYGEN DEFICIENCY AND METHODS OF FABRICATION THEREOF
(FR) ABSORBEURS SOLAIRES SÉLECTIFS AVEC UN DÉFICIT EN OXYGÈNE RÉGLÉ ET PROCÉDÉS DE FABRICATION DE CEUX-CI
Abrégé : front page image
(EN) Systems and methods disclosed herein are directed towards the fabrication of a solar absorber comprising an IR reflector layer deposited on a substrate; a first cermet layer deposited in contact with the IR reflector layer; a second cermet layer deposited in contact with the first cermet layer; a first anti-reflection coating layer deposited in contact with the second cermet layer; a second anti-reflection coating layer deposited in contact with the first anti-reflection coating layer. A sputtering process may be used to deposit some or all of the layers, and the YSZ layers in each cermet layer may be deposited with a tuned partial oxygen pressure in order to form a layer that is oxygen-deficient.
(FR) Des systèmes et des procédés de l'invention concernent la fabrication d'un absorbeur solaire comprenant une couche de réflecteur IR déposée sur un substrat ; une première couche de cermet déposée en contact avec la couche de réflecteur IR ; une deuxième couche de cermet déposée en contact avec la première couche de cermet ; une première couche de revêtement antireflet déposée en contact avec la deuxième couche de cermet ; une deuxième couche de revêtement antireflet déposée en contact avec la première couche de revêtement antireflet. Un processus de pulvérisation peut être utilisé pour déposer certaines ou toutes les couches, et les couches YSZ dans chaque couche de cermet peuvent être déposées avec une pression partielle d'oxygène réglée afin de former une couche avec un déficit en oxygène.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)