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1. (WO2016205610) LITHOGRAPHIE À NANOSPHÈRES RÉGLABLES EN 2D DE NANOSTRUCTURES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/205610    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/038031
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 17.06.2016
CIB :
B81C 1/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : THE UNIVERSITY OF FLORIDA RESEARCH FOUNDATION, INC. [US/US]; 233 Grinter Hall Gainesville, FL 32611 (US)
Inventeurs : ZIEGLER, Kirk, Jeremy; (US).
LI, Luping; (US).
JIANG, Peng; (US).
FANG, Yin; (US).
XU, Cheng; (US).
ZHAO, Yang; (US)
Mandataire : SCHOEN, Randy R.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/181,468 18.06.2015 US
Titre (EN) 2D TUNABLE NANOSPHERE LITHOGRAPHY OF NANOSTRUCTURES
(FR) LITHOGRAPHIE À NANOSPHÈRES RÉGLABLES EN 2D DE NANOSTRUCTURES
Abrégé : front page image
(EN)Various examples are provided for two-dimensional (2D) tunable nanosphere lithography of nanostructures. In one example, a method includes disposing a pattern of nanospheres on a surface of a substrate by, e.g., spin-coating a colloidal suspension including the nanospheres, forming a porous metal film on the surface of the substrate, and forming a plurality of nanostructures by chemically etching the substrate. The pattern of nanospheres can be a hexagonal pattern, where spacing between the nanospheres is independent of the particle size. The porous metal film can include a hexagonal pattern of pores defined by the nanospheres and the plurality of nanostructures can be defined by the hexagonal pattern of pores of the porous metal film.
(FR)L'invention concerne divers exemples de lithographie à nanosphères réglables bidimensionnelles (2D) de nanostructures. Selon un exemple, un procédé consiste à disposer un motif de nanosphères sur une surface d'un substrat, par ex. par centrifugation d'une suspension colloïdale incluant les nanosphères, à former une pellicule de métal poreuse sur la surface du substrat, et à former une pluralité de nanostructures par gravure chimique du substrat. Le motif de nanosphères peut être un motif hexagonal, l'espacement entre les nanosphères étant indépendant de la taille des particules. La pellicule de métal poreuse peut inclure un motif hexagonal de portes défini par les nanosphères et la pluralité de nanostructures peut être définie par le motif hexagonal de pores de la pellicule de métal poreuse.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)