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1. (WO2016204204) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM À MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/204204    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/067860
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 15.06.2016
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 14/04 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 7-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP).
ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI Nobuaki; (JP).
AKAGI Kiyoshi; (JP).
SHIMIZU Go; (JP).
Sato Yoshikatsu; (JP)
Mandataire : ISONO INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.; Hulic Toranomon Building, 1-18, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-120395 15.06.2015 JP
Titre (EN) PATTERN FILM FORMING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM À MOTIF
(JA) パターン成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a pattern film forming device that, when intermittently conveying a flexible band-like substrate, is capable of suitably detecting substrate markers provided on the substrate at a pattern processing position. The pattern film forming device (1) is equipped with thin-film forming units (10X), (10Y) each having a first imaging unit (15) for imaging substrate markers provided in each processing region on a substrate (2) and second imaging units (16a), (16b) for imaging the substrate markers at the pattern processing position. A control unit calculates the conveyance distance to the pattern processing position on the basis of the detection results from the first imaging unit (15). By controlling drive rollers (12) on the basis of the conveyance distance, the processing regions corresponding to the substrate markers are conveyed to the pattern processing position, and by controlling a material ejecting unit (17) and a mask (18) on the basis of the detection results from the second imaging units (16a), (16b), film pattern processing is performed on the processing regions.
(FR)L'invention concerne un dispositif de formation de film à motif qui, lorsqu'il transporte par intermittence un substrat de type bande flexible, peut détecter judicieusement des marqueurs du substrat situés sur le substrat au niveau d'une position de traitement de motif. Le dispositif de formation de film à motif (1) est équipé d'unités de formation de film mince (10X), (10Y) comportant chacune une première unité d'imagerie (15) conçue pour imager les marqueurs du substrat situés dans chaque région de traitement sur un substrat (2), ainsi que des secondes unités d'imagerie (16a), (16b) conçues pour imager les marqueurs du substrat au niveau de la position de traitement de motif. Une unité de commande calcule la distance de transport jusqu'à la position de traitement de motif sur la base des résultats de détection provenant de la première unité d'imagerie (15). La commande de rouleaux d'entraînement (12) sur la base de la distance de transport permet de transporter les régions de traitement correspondant aux marqueurs du substrat jusqu'à la position de traitement de motif. La commande d'une unité d'éjection de matériau (17) et d'un masque (18) sur la base des résultats de détection provenant des secondes unités d'imagerie (16a), (16b) permet de procéder à un traitement de motif de film sur les régions de traitement.
(JA)可撓性を有する帯状の基材を間欠搬送する際に、パターン加工位置において基材に設けられた基材マーカーを好適に検出することが可能なパターン成膜装置を提供する。 パターン成膜装置(1)は、基材(2)に加工領域ごとに設けられた基材マーカーを撮影する第一の撮影部(15)と、パターン加工位置において基材マーカーを撮影する第二の撮影部(16a),(16b)と、を有する薄膜形成部(10X),(10Y)を備え、制御部は、第一の撮影部(15)の検出結果に基づいて、パターン加工位置までの搬送距離を算出し、搬送距離に基づいて駆動ローラ(12)を制御することによって、基材マーカーに対応する加工領域をパターン加工位置まで搬送し、第二の撮影部(16a),(16b)の検出結果に基づいて材料出射部(17)及びマスク(18)を制御することによって、加工領域に膜パターン加工を行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)