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1. (WO2016204143) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/204143    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/067666
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 14.06.2016
CIB :
H01L 21/306 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/308 (2006.01)
Déposants : J.E.T. CO., LTD. [JP/JP]; 6078, Aza Kanayama, Oaza Shinjo, Satosho-cho, Asakuchi-gun, Okayama 7190302 (JP)
Inventeurs : SHOMORI Hirofumi; (JP).
KIMURA Atsuo; (JP)
Mandataire : YOSHIDA Tadanori; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-123461 19.06.2015 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理システム及び基板処理方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a substrate processing system and a substrate processing method that make it possible to achieve an anticipated etching grade, selection ratio, etc. and to perform stable processing. According to the present invention, a substrate (11) is immersed in a processing liquid (12) that is stored in a processing tank (14). The processing tank (14) is sealed by cover members (21a, 21b), and the inside thereof is pressurized by steam from the heated processing liquid (12). Purified water is continuously added to the processing liquid (12). The internal pressure of the processing tank (14) is measured, and the opening degree of an exhaust valve (41) is increased/decreased on the basis of said internal pressure (Pa) such that the internal pressure is kept constant. The amount of purified water that is added is increased/decreased on the basis of the internal pressure (Pa), and the substrate (11) is processed with the processing liquid (12), which has a constant concentration and is at a constant temperature.
(FR)L'invention concerne un système de traitement de substrat et un procédé de traitement de substrat qui permettent d'obtenir une qualité de gravure, un rapport de sélection, etc. anticipés et d'effectuer un traitement stable. Selon la présente invention, un substrat (11) est immergé dans un liquide de traitement (12) qui est stocké dans une cuve de traitement (14). La cuve de traitement (14) est fermée hermétiquement par des éléments de recouvrement (21a, 21b), et son intérieur est mis sous pression par de la vapeur du liquide de traitement chauffé (12). De l'eau purifiée est ajoutée en continu au liquide de traitement (12). La pression interne de la cuve de traitement (14) est mesurée, et le degré d'ouverture d'une soupape d'échappement (41) est augmenté/diminué en fonction de ladite pression interne (Pa) de manière à maintenir la pression interne à une valeur constante. La quantité d'eau purifiée qui est ajoutée est augmentée/diminuée en fonction de la pression interne (Pa), et le substrat (11) est traité avec le liquide de traitement (12), qui a une concentration constante et est à une température constante.
(JA) 所期のエッチングレートや選択比が得られ、安定した処理を行うことができる基板処理システム及び基板処理方法を提供する。処理槽(14)に貯留された処理液(12)に基板(11)を浸漬する。処理槽(14)は、カバー部材(21a、21b)によって密閉され、加熱した処理液(12)からの水蒸気で内部が加圧される。処理液(12)には、純水が連続的に加水される。処理槽(14)の内部圧力を測定し、その内部圧力(Pa)に基づき排気弁(41)の開度を増減し、内部圧力を一定に保つとともに、内部圧力(Pa)に基づき純水の加水量を増減し、一定の濃度、一定の温度の処理液(12)で基板(11)を処理する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)