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1. (WO2016204034) PROCÉDÉ D'APPLICATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/204034    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/067014
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 08.06.2016
CIB :
C09J 5/00 (2006.01), A47L 25/00 (2006.01), B32B 38/18 (2006.01), C09J 7/02 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventeurs : YAMADA, Nobuaki; (--)
Mandataire : YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-120204 15.06.2015 JP
Titre (EN) FILM APPLICATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'APPLICATION DE FILM
(JA) フィルム貼り付け方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a film application method which can prevent the intrusion of foreign bodies and air bubbles onto an adhering surface even when the film is applied in a general environment where foreign bodies such as dust are present. This film application method is a method for applying a functional film onto a base material, the method including: a step (1) of applying a first adhesive layer onto the base material with a foreign body removing portion and a main body portion placed on top of each other, the foreign body removing portion including the first adhesive layer and a first film, and the main body portion including a second film, a second adhesive layer and the functional film; and a step (2) of tearing off both the foreign body removing portion and the second film from between the base material and the functional film with one end of the functional film fixed to the base material, the tearing starting from the end to which the functional film is fixed, and applying the second adhesive layer, which has become exposed due to peeling of the second film, onto the surface of the base material, which has become exposed due to peeling of the foreign body removing portion.
(FR)L'invention concerne un procédé d'application de film qui permet d'empêcher l'intrusion de corps étrangers et de bulles d'air sur une surface d'adhérence même lorsque le film est appliqué dans un environnement général où des corps étrangers tels que de la poussière sont présents. Ledit procédé d'application de film est un procédé permettant d'appliquer un film fonctionnel sur un matériau de base, le procédé comprenant : une étape (1) consistant à appliquer une première couche adhésive sur le matériau de base, une partie d'élimination de corps étrangers et une partie de corps principal étant placées l'une au-dessus de l'autre, la partie d'élimination de corps étrangers comprenant la première couche adhésive et un premier film, et la partie de corps principal comprenant un deuxième film, une deuxième couche adhésive et le film fonctionnel ; et une étape (2) consistant à arracher à la fois la partie d'élimination de corps étrangers et le deuxième film entre le matériau de base et le film fonctionnel, une extrémité du film fonctionnel étant fixée au matériau de base, l'arrachage partant de l'extrémité à laquelle est fixé le film fonctionnel, et appliquer la deuxième couche adhésive, qui a été mise à nu en raison du pelage du deuxième film, sur la surface du matériau de base, qui a été mise à nu en raison du pelage de la partie d'élimination de corps étrangers.
(JA)本発明は、埃等の異物が浮遊した一般的な環境中で貼り付けた場合であっても貼り付け面に異物及び気泡が侵入することを防止できるフィルム貼り付け方法を提供する。 本発明のフィルム貼り付け方法は、基材に機能性フィルムを貼り付ける方法であって、第一の粘着層及び第一のフィルムを含む異物除去部と、第二のフィルム、第二の粘着層及び機能性フィルムを含む本体部とを重ねた状態で、第一の粘着層を基材に貼り付けるステップ(1)、及び、機能性フィルムの一端を基材に固定した状態で、異物除去部及び第二のフィルムの両方を、機能性フィルムが固定された側の端部を起点にして、基材と機能性フィルムの間を通して引き剥がすとともに、異物除去部の剥離によって露出した基材の表面に、第二のフィルムの剥離によって露出した第二の粘着層を貼り付けるステップ(2)を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)