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1. (WO2016203868) DISPOSITIF SOURCE D'ALIMENTATION POUR INSTRUMENT DE TRAITEMENT HAUTE FRÉQUENCE, ET SYSTÈME DE TRAITEMENT COMPRENANT LEDIT DISPOSITIF SOURCE D'ALIMENTATION
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N° de publication : WO/2016/203868 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/063773
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 09.05.2016
CIB :
A61B 18/16 (2006.01)
Déposants : OLYMPUS CORPORATION[JP/JP]; 2951 Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928507, JP
Inventeurs : SUGAWARA, Tateyuki; JP
Mandataire : KURATA, Masatoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2015-12362319.06.2015JP
Titre (EN) POWER SOURCE DEVICE FOR HIGH-FREQUENCY TREATMENT INSTRUMENT, AND TREATMENT SYSTEM PROVIDED WITH SAID POWER SOURCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF SOURCE D'ALIMENTATION POUR INSTRUMENT DE TRAITEMENT HAUTE FRÉQUENCE, ET SYSTÈME DE TRAITEMENT COMPRENANT LEDIT DISPOSITIF SOURCE D'ALIMENTATION
(JA) 高周波処置具のための電源装置及びそれを備える処置システム
Abrégé : front page image
(EN) A power source device 100 for a high-frequency treatment instrument is provided with an active-side detection circuit (110), a passive-side detection circuit (150), and a computation unit (194). The active-side detection circuit (110) acquires a first signal, which is outputted from a treatment instrument terminal (182) to a treatment instrument (220), and a second signal, which returns from the treatment instrument (220) to the treatment instrument terminal (182). The passive-side detection circuit (150) acquires a third signal, which is outputted from the treatment instrument terminal (182) to the treatment instrument (220) and passes to a return electrode terminal (184) via a return electrode (240). The computation unit (194) calculates a reflection loss, which is the ratio of the second signal to the first signal, and a first insertion loss, which is the ratio of the third signal to the first signal, and, on the basis of the reflection loss and the first insertion loss, identifies the location where an abnormality is occurring.
(FR) La présente invention concerne un dispositif source d'alimentation 100 destiné à un instrument de traitement haute fréquence comprenant un circuit (110) de détection du côté actif, un circuit (150) de détection du côté passif, et une unité de calcul (194). Le circuit (110) de détection du côté actif acquiert un premier signal, qui est délivré d'une borne (182) d'instrument de traitement à un instrument de traitement (220), et un deuxième signal, qui revient de l'instrument de traitement (220) vers la borne (182) de l'instrument de traitement. Le circuit (150) de détection du côté passif acquiert un troisième signal, qui est délivré de la borne (182) de l'instrument de traitement à l'instrument de traitement (220) et passe à une borne (184) d'électrode de retour par l'intermédiaire d'une électrode de retour (240). L'unité de calcul (194) calcule une perte par réflexion, qui est le rapport du deuxième signal au premier signal, et une première perte par insertion, qui est le rapport du troisième signal au premier signal, et, sur la base de la perte par réflexion et de la première perte par insertion, identifie l'emplacement dans lequel se produit une anomalie.
(JA) 高周波処置具のための電源装置100は、アクティブ側検出回路(110)と、パッシブ側検出回路(150)と、演算部(194)とを備える。アクティブ側検出回路(110)は、処置具用端子(182)から処置具(220)へと出力された第1の信号と、処置具(220)から処置具用端子(182)へと戻る第2の信号とを取得する。パッシブ側検出回路(150)は、処置具用端子(182)から処置具(220)へと出力され対極板(240)を介して対極板用端子(184)へと通過する第3の信号を取得する。演算部(194)は、第1の信号に対する第2の信号である反射損失と、第1の信号に対する第3の信号である第1の挿入損失とを算出し、反射損失と第1の挿入損失とに基づいて、異常の発生箇所を特定する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)