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1. (WO2016203586) AGENT DE POLISSAGE, SOLUTION DE STOCKAGE POUR AGENT DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/203586    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/067508
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 17.06.2015
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B24B 37/013 (2012.01), C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : MIZUTANI Makoto; (JP).
NOMURA Satoyuki; (JP).
SAKURAI Haruaki; (JP).
NISHIYAMA Masaya; (JP).
HANANO Masayuki; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) POLISHING AGENT, STORAGE SOLUTION FOR POLISHING AGENT AND POLISHING METHOD
(FR) AGENT DE POLISSAGE, SOLUTION DE STOCKAGE POUR AGENT DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE
(JA) 研磨剤、研磨剤用貯蔵液及び研磨方法
Abrégé : front page image
(EN)A polishing agent for mechanochemically polishing a substrate, which comprises a carbon-based material containing 60-95 atm% of carbon when measured by X-ray photoelectron spectroscopy and an insulating material, and removing at least a part of the carbon-based material, said polishing agent comprising abrasive grains containing silica, an allylamine-based polymer and water, wherein the ratio by mass of the allylamine-based polymer content to the abrasive grain content is 0.002-0.400 and the abrasive grains are positively charged in the polishing agent.
(FR)L'invention concerne un agent de polissage destiné à polir par voie mécano-chimique un substrat, qui comprend un matériau à base de carbone contenant de 60 à 95 % atomique de carbone mesuré par spectroscopie de photoélectrons induits par rayons X et un matériau isolant, et à retirer au moins une partie du matériau à base de carbone, ledit agent de polissage comprenant des grains abrasifs contenant de la silice, un polymère à base d'allylamine et de l'eau, le rapport en masse de la teneur en polymère à base d'allylamine sur la teneur en grains abrasifs étant de 0,002 à 0,400 et les grains abrasifs étant chargés positivement dans l'agent de polissage.
(JA)X線光電子分光法により測定される炭素量が60~95atm%である炭素系材料と、絶縁材料と、を有する基体を化学機械研磨して、前記炭素系材料の少なくとも一部を除去するための研磨剤であって、前記研磨剤が、シリカを含む砥粒と、アリルアミン系重合体と、水と、を含有し、前記砥粒の含有量に対する前記アリルアミン系重合体の含有量の質量比が0.002~0.400であり、前記砥粒が前記研磨剤中で正の電荷を有する、研磨剤。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)