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1. (WO2016202559) SUIVI DE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/202559    N° de la demande internationale :    PCT/EP2016/062069
Date de publication : 22.12.2016 Date de dépôt international : 27.05.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : TEL, Wim, Tjibbo; (NL).
STAALS, Frank; (NL).
MASLOW, Mark, John; (NL)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
62/180,523 16.06.2015 US
Titre (EN) PROCESS WINDOW TRACKING
(FR) SUIVI DE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein is a computer-implemented method for adjusting a lithography process, processing parameters of the lithography process comprising a first group of processing parameters and a second group of processing parameters, the method comprising: obtaining a change of the second group of processing parameters; determining a change of a sub-PW as a result of the change of the second group of processing parameters, wherein the sub-PW is spanned by only the first group of processing parameters; adjusting the first group of processing parameters based on the change of the sub-PW.
(FR)L'invention concerne un procédé mis en œuvre par ordinateur pour régler un processus de lithographie, des paramètres de traitement du processus de lithographie comprenant un premier groupe de paramètres de traitement et un second groupe de paramètres de traitement, le procédé comprenant les étapes consistant : à obtenir un changement du second groupe de paramètres de traitement ; à déterminer un changement d'une sous-fenêtre de traitement (PW) en tant que résultat du changement du second groupe de paramètres de traitement, la sous-PW étant couverte uniquement par le premier groupe de paramètres de traitement ; à régler le premier groupe de paramètres de traitement sur la base du changement de la sous-PW.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)