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1. (WO2016202559) SUIVI DE FENÊTRE DE TRAITEMENT

Pub. No.:    WO/2016/202559    International Application No.:    PCT/EP2016/062069
Publication Date: Fri Dec 23 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Sat May 28 01:59:59 CEST 2016
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: TEL, Wim, Tjibbo
STAALS, Frank
MASLOW, Mark, John
Title: SUIVI DE FENÊTRE DE TRAITEMENT
Abstract:
L'invention concerne un procédé mis en œuvre par ordinateur pour régler un processus de lithographie, des paramètres de traitement du processus de lithographie comprenant un premier groupe de paramètres de traitement et un second groupe de paramètres de traitement, le procédé comprenant les étapes consistant : à obtenir un changement du second groupe de paramètres de traitement ; à déterminer un changement d'une sous-fenêtre de traitement (PW) en tant que résultat du changement du second groupe de paramètres de traitement, la sous-PW étant couverte uniquement par le premier groupe de paramètres de traitement ; à régler le premier groupe de paramètres de traitement sur la base du changement de la sous-PW.