WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016199957) COMPOSITION POUR FILM DE PROTECTION CONTRE L'IMPRÉGNATION DE L'HUMIDITÉ POUR DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE PROTECTION CONTRE L'IMPRÉGNATION DE L'HUMIDITÉ POUR DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE UTILISANT CELUI-CI, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/199957    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/005885
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 11.06.2015
CIB :
H05K 3/28 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01)
Déposants : JIOS AEROGEL CORPORATION [KR/KR]; 531-14 Gajang-ro Osan-si Gyeonggi-do 447-210 (KR)
Inventeurs : ROH, Myung Je; (KR).
JOUNG, Young Chul; (KR).
PARK, Jong Chul; (KR).
KIM, Min Woo; (KR).
HAHN, Choon Soo; (KR).
LEE, Mun Hyeong; (KR).
JUNG, Dong Ho; (KR).
PARK, Do Young; (KR)
Mandataire : PANKOREA PATENT AND LAW FIRM; 13F, 70 Nonhyeon-ro 85-gil Gangnam-gu Seoul 135-933 (KR)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) COMPOSITION FOR MOISTURE PERMEATION PREVENTING FILM FOR ELECTRONIC DEVICE, METHOD FOR FORMING MOISTURE PERMEATION PREVENTING FILM FOR ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION POUR FILM DE PROTECTION CONTRE L'IMPRÉGNATION DE L'HUMIDITÉ POUR DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DE PROTECTION CONTRE L'IMPRÉGNATION DE L'HUMIDITÉ POUR DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE UTILISANT CELUI-CI, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(KO) 전자 기기용 투습 방지막 조성물, 이를 이용한 전자 기기용 투습 방지막의 형성 방법, 및 전자 기기
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a composition for a moisture permeation preventing film for an electronic device, a method for forming a moisture permeation preventing film for an electronic device using the same, and an electronic device. The present invention can provide: a composition for a moisture permeation preventing film for an electronic device, the composition containing 1-10 wt% of an aerogel, 10-50 wt% of a solvent, 0.1-5 wt% of an additive, and the remainder binder; a method for forming a moister permeation preventing film for an electronic device using the same; and an electronic device.
(FR)La présente invention concerne une composition pour un film de protection contre l'imprégnation de l'humidité pour un dispositif électronique, un procédé de formation d'un film de protection contre l'imprégnation de l'humidité pour un dispositif électronique utilisant celui-ci et un dispositif électronique. La présente invention peut fournir : une composition pour un film de protection contre l'imprégnation de l'humidité pour un dispositif électronique, la composition contenant de 1 à 10 % en poids d'un aérogel, de 10 à 50 % en poids d'un solvant, de 0,1 à 5 % en poids d'un additif, le reste étant un liant ; un procédé de formation d'un film de protection contre l'imprégnation de l'humidité pour un dispositif électronique l'utilisant ; et un dispositif électronique.
(KO)전자 기기용 투습 방지막 조성물, 이를 이용한 전자 기기용 투습 방지막의 형성 방법, 및 전자 기기에 관한 것으로, 1 내지 10 중량%의 에어로젤; 10 내지 50 중량%의 용제; 0.1 내지 5 중량%의 첨가제; 및 잔부의 바인더;를 포함하는, 전자 기기용 투습 방지막 조성물을 제공하며, 이를 이용하여 전자 기기용 투습 방지막을 형성하는 방법 및 전자 기기를 제공할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)