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1. (WO2016199926) COMPOSITION PRÉCURSEUR DE POLYIMIDE ET COMPOSITION DE POLYIMIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/199926    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/067453
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 10.06.2016
CIB :
C08L 79/08 (2006.01), B32B 17/10 (2006.01), B32B 27/34 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), C08K 3/26 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01)
Déposants : UBE INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1978-96, Oaza Kogushi, Ube-shi, Yamaguchi 7558633 (JP)
Inventeurs : OKA, Takuya; (JP).
KOHAMA, Yukinori; (JP).
TAKASAWA, Ryoichi; (JP).
HISANO, Nobuharu; (JP).
KAWAGISHI, Ken; (JP)
Mandataire : ITO, Katsuhiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-119719 12.06.2015 JP
Titre (EN) POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION AND POLYIMIDE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION PRÉCURSEUR DE POLYIMIDE ET COMPOSITION DE POLYIMIDE
(JA) ポリイミド前駆体組成物、及びポリイミド組成物
Abrégé : front page image
(EN)The present invention pertains to a polyimide precursor composition which comprises a polyimide precursor and fine particles having optical anisotropy and to a polyimide composition which comprises a polyimide and fine particles having optical anisotropy.
(FR)La présente invention concerne une composition précurseur de polyimide qui comprend un précurseur de polyimide et de fines particules douées d'anisotropie optique et une composition de polyimide qui comprend un polyimide et de fines particules douées d'anisotropie optique.
(JA)本発明は、ポリイミド前駆体と光学異方性を有する微粒子とを含むポリイミド前駆体組成物、及び、ポリイミドと光学異方性を有する微粒子とを含むポリイミド組成物に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)