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1. (WO2016199762) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT

Pub. No.:    WO/2016/199762    International Application No.:    PCT/JP2016/066917
Publication Date: Fri Dec 16 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Wed Jun 08 01:59:59 CEST 2016
IPC: G03F 7/075
C07F 7/18
C08G 77/14
C08G 77/50
G03F 7/038
Applicants: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
日産化学工業株式会社
Inventors: NAKAJIMA, Makoto
中島 誠
TAKASE, Kenji
高瀬 顕司
TAKEDA, Satoshi
武田 諭
SHIBAYAMA, Wataru
柴山 亘
Title: COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT
Abstract:
Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition sensible à un rayonnement qui contient, comme résine de base, un polymère de siloxane ayant une réticulation de phénoplaste, et qui a une excellente résolution et est capable de former un motif ayant une forme souhaitée avec une grande précision. La solution selon l'invention concerne une composition sensible à un rayonnement qui contient un générateur de photoacide et, comme silane, un silane hydrolysable, un produit d'hydrolyse du silane hydrolysable ou un produit d'hydrolyse partiel du silane hydrolysable, et le silane hydrolysable comprenant des composés représentés par la formule (1) et la formule (2). (Dans la formule (1), R1 représente un groupe organique représenté par la formule (1-2) et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C ou une liaison Si-O ; R2 représente un groupe organique ; et R3 représente un groupe hydrolysable.) (Dans la formule (2), R7 représente un groupe organique représenté par la formule (2-1) et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C ; R8 représente un groupe organique et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C ; et R9 représente un groupe hydrolysable.) FIG. 1: AA%%%Formule