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1. (WO2016199762) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/199762    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/066917
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 07.06.2016
CIB :
G03F 7/075 (2006.01), C07F 7/18 (2006.01), C08G 77/14 (2006.01), C08G 77/50 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kanda-Nishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : NAKAJIMA, Makoto; (JP).
TAKASE, Kenji; (JP).
TAKEDA, Satoshi; (JP).
SHIBAYAMA, Wataru; (JP)
Mandataire : HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-118625 11.06.2015 JP
Titre (EN) RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
(FR) COMPOSITION SENSIBLE À UN RAYONNEMENT
(JA) 感放射線性組成物
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a radiation sensitive composition which contains, as a base resin, a siloxane polymer having phenoplast crosslinkability, and which has excellent resolution and is capable of forming a pattern having a desired shape with high accuracy. [Solution] A radiation sensitive composition which contains a photoacid generator and, as a silane, a hydrolyzable silane, a hydrolysis product of the hydrolyzable silane or a partial hydrolysis product of the hydrolyzable silane, and wherein the hydrolyzable silane includes compounds represented by formula (1) and formula (2). (In formula (1), R1 represents an organic group represented by formula (1-2) and is bonded to a silicon atom by an Si-C bond or an Si-O bond; R2 represents an organic group; and R3 represents a hydrolyzable group.) (In formula (2), R7 represents an organic group represented by formula (2-1) and is bonded to a silicon atom by an Si-C bond; R8 represents an organic group and is bonded to a silicon atom by an Si-C bond; and R9 represents a hydrolyzable group.) AA Formula
(FR)Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition sensible à un rayonnement qui contient, comme résine de base, un polymère de siloxane ayant une réticulation de phénoplaste, et qui a une excellente résolution et est capable de former un motif ayant une forme souhaitée avec une grande précision. La solution selon l'invention concerne une composition sensible à un rayonnement qui contient un générateur de photoacide et, comme silane, un silane hydrolysable, un produit d'hydrolyse du silane hydrolysable ou un produit d'hydrolyse partiel du silane hydrolysable, et le silane hydrolysable comprenant des composés représentés par la formule (1) et la formule (2). (Dans la formule (1), R1 représente un groupe organique représenté par la formule (1-2) et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C ou une liaison Si-O ; R2 représente un groupe organique ; et R3 représente un groupe hydrolysable.) (Dans la formule (2), R7 représente un groupe organique représenté par la formule (2-1) et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C ; R8 représente un groupe organique et est lié à un atome de silicium par une liaison Si-C ; et R9 représente un groupe hydrolysable.) FIG. 1: AA%%%Formule
(JA)【課題】 フェノプラスト架橋反応性を示すシロキサンポリマーをベース樹脂とする感放射線性組成物であって、解像度に優れており、且つ所望形状のパターンを精度良く形成することのできる感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 シランとして加水分解性シラン、その加水分解物、又はその加水分解縮合物と光酸発生剤とを含み、該加水分解性シランが式(1)及び式(2)を含む感放射線性組成物。 RSi(R4-(a+b)式(1)〔式(1)中、Rは式(1-2): RSi(R4-(c+d)式(2) で示される有機基を示し且つSi-C結合又はSi-O結合によりケイ素原子と結合しているものである。は有機基を示す。Rは加水分解性基を示す。〕 〔式(2)中、Rは式(2-1): で示される有機基であって、且つSi-C結合よりケイ素原子と結合しているものである。Rは有機基であって、且つSi-C結合によりケイ素原子と結合しているものである。Rは加水分解性基を示す。〕
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)