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1. (WO2016199739) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/199739    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/066829
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 07.06.2016
CIB :
H05B 33/04 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522 (JP)
Inventeurs : ISHIDA, Mamoru; (--).
OKAMOTO, Tetsuya; (--).
HIRASE, Takeshi; (--).
SENOO, Tohru; (--).
SONODA, Tohru; (--)
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2015-119593 12.06.2015 JP
Titre (EN) EL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING EL DISPLAY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT
(JA) EL表示装置及びEL表示装置の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an EL display device in which the adhesion between a substrate and a sealing film is increased and cracking in the sealing film is minimized. A lower layer inorganic film (31) has a laminated structure comprising a first inorganic layer (34) in contact with the substrate and an EL element, and a second inorganic layer (35). The absolute value of the film stress of the first inorganic layer (34) is smaller than the absolute value of the film stress of the second inorganic layer (35), and the film thickness of the first inorganic layer (34) is smaller than the film thickness of the second inorganic layer (35).
(FR)L'invention concerne un dispositif d'affichage électroluminescent (EL) dans lequel l'adhérence entre un substrat et un film d'étanchéité est augmentée et la fissuration dans le film d'étanchéité est réduite au minimum. Un film inorganique de couche inférieure (31) possède une structure stratifiée comprenant une première couche inorganique (34) en contact avec le substrat et un élément EL, et une seconde couche inorganique (35). La valeur absolue de la contrainte de film de la première couche inorganique (34) est inférieure à la valeur absolue de la contrainte de film de la seconde couche inorganique (35), et l'épaisseur de film de la première couche inorganique (34) est inférieure à l'épaisseur de film de la seconde couche inorganique (35).
(JA) 基板と封止膜との密着性を高め、かつ、封止膜におけるクラックの発生を抑制したEL表示装置を提供する。下層無機膜(31)は、基板及びEL素子に接触している第1無機層(34)と、第2無機層(35)と、の積層構造を有しており、第1無機層(34)の膜応力の絶対値は第2無機層(35)の膜応力の絶対値よりも小さく、第1無機層(34)の膜厚は第2無機層(35)の膜厚よりも薄い。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)