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1. (WO2016198855) PROCÉDÉ POUR FORMER UN REVÊTEMENT SUR UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE OU ÉLECTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/198855 N° de la demande internationale : PCT/GB2016/051686
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 08.06.2016
CIB :
H05K 3/28 (2006.01) ,B05D 1/00 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
22
Traitement secondaire des circuits imprimés
28
Application de revêtements de protection non métalliques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1
Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
Déposants :
P2I LTD [GB/GB]; 9-12 North Central 127 Olympic Avenue Milton Park Abingdon Oxfordshire OX14 4SA, GB
Inventeurs :
COULSON, Stephen Richard; GB
EVANS, Delwyn; GB
HELLWIG, Thomas; GB
HOPPER, Fred; GB
POULTER, Neil; GB
SIOKOU, Angeliki; GB
TELFORD, Clive; GB
Mandataire :
BLAKE, Michael; GB
Données relatives à la priorité :
15386018.409.06.2015EP
Titre (EN) METHOD FOR FORMING A COATING ON AN ELECTRONIC OR ELECTRICAL DEVICE
(FR) PROCÉDÉ POUR FORMER UN REVÊTEMENT SUR UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE OU ÉLECTRIQUE
Abrégé :
(EN) An electronic or electrical device or component thereof having a coating formed thereon by exposing said electronic or electrical device or component thereof to a plasma comprising one or more monomer compounds for a sufficient period of time to allow a protective polymeric coating to form on a surface thereof;wherein the protective polymeric coating forms a physical barrier over a surface of the electronic or electrical device or component thereof; wherein each monomer is a compound of formula I(a): I(a) or a compound of formula I(b) wherein each of R1 to R9 is independently selected from hydrogen or halogen or an optionally substituted C1-C6 branched or straight chain alkyl group; each X is independently selected from hydrogen or halogen; a is from 0-6; b is from 2 to 14; and c is 0 or 1;and wherein when each X is F or when at least one X is halogen, in particular F, the FTIR/ATR intensity ratio of CX3/C=O of the coating is less than (c+1)0.6e-0.1n where n is a+b+c+1;and wherein when each X is H the FTIR/ATR intensity ratio of CX3/C=O is less than (c+1) 0.25±0.02, optionally wherein the barrier is a conformal physical barrier.
(FR) L'invention concerne un dispositif électrique ou électronique ou un composant de celui-ci sur lequel est formé un revêtement par exposition dudit dispositif électrique ou électronique ou du composant de celui-ci à un plasma comprenant un ou plusieurs composés monomères pendant un intervalle de temps suffisant pour permettre la formation d'un revêtement polymère de protection sur une surface de celui-ci; le revêtement polymère de protection forme une barrière physique sur une surface du dispositif électrique ou électronique ou du composant de celui-ci; chaque monomère est un composé de formule I (a) : I (a) ou un composé de formule I (b), formules dans lesquelles chacun des R1 à R9 est indépendamment choisi parmi hydrogène ou halogène ou un groupe alkyle à chaîne droite ou ramifiée éventuellement substitué en C1-C6; chaque X est choisi indépendamment parmi hydrogène ou halogène; a vaut de 0 à 6; b vaut de 2 à 14; et c vaut 0 ou 1; et lorsque chaque X représente F ou lorsqu'au moins un X représente halogène, notamment F, le rapport d'intensité FTIR/ATR de CX3/C=O du revêtement est inférieur à (c+1)0,6e-0,1n , n étant a + b + c +1; et lorsque chaque X représente H, le rapport d'intensité FTIR/ATR de CX3/C=O est inférieur à (c+1) 0,25±0,02, éventuellement la barrière étant une barrière physique conforme.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)