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1. (WO2016197528) APPAREIL DE POST-CUISSON ET PROCÉDÉ DE POST-CUISSON POUR FORMER UNE MATRICE NOIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/197528 N° de la demande internationale : PCT/CN2015/093600
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 02.11.2015
CIB :
G03F 7/40 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26
Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
40
Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
Inventeurs :
王路 WANG, Lu; CN
Mandataire :
北京市柳沈律师事务所 LIU, SHEN & ASSOCIATES; 中国北京市 海淀区彩和坊路10号1号楼10层 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080, CN
Données relatives à la priorité :
201510315992.110.06.2015CN
Titre (EN) POST-BAKING APPARATUS AND POST-BAKING METHOD FOR FORMING BLACK MATRIX
(FR) APPAREIL DE POST-CUISSON ET PROCÉDÉ DE POST-CUISSON POUR FORMER UNE MATRICE NOIRE
(ZH) 用于形成黑矩阵的后烘装置和后烘方法
Abrégé :
(EN) A post-baking apparatus and post-baking method for forming a black matrix. The post-baking apparatus comprises: a housing (10), limiting an internal accommodating space; a plurality of heating elements (20), disposed inside the housing (10); and at least one bracket (40), disposed in the internal accommodating space, and configured to support a substrate (41) where a black matrix is formed, the bracket (40) and the plurality of heating elements (20) being relatively rotatable.
(FR) L'invention concerne un appareil de post-cuisson et un procédé de post-cuisson pour former une matrice noire. L'appareil de post-cuisson comprend : un boîtier (10), limitant un espace de réception interne ; une pluralité d'éléments chauffants (20), disposés à l'intérieur du boîtier (10) ; et au moins un support (40), disposé dans l'espace de réception interne, et conçu pour porter un substrat (41) où une matrice noire est formée, le support (40) et la pluralité d'éléments chauffants (20) étant relativement rotatifs.
(ZH) 一种用于形成黑矩阵的后烘装置和后烘方法,其中后烘装置包括:壳体(10),限定内部容置空间;多个加热元件(20),设置在壳体(10)内部;至少一个托架(40),设置在内部容置空间中,且构造为承托形成有黑矩阵的基板(41),托架(40)与多个加热元件(20)是可相对旋转的。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)