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1. (WO2016197426) DISPOSITIF DE NETTOYAGE PAR ULTRAVIOLETS DE SUBSTRAT EN VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/197426    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/083067
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 01.07.2015
CIB :
B08B 11/00 (2006.01), B08B 7/00 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.9-2, Tangming Road, Guangming District of Shenzhen, Guangdong 518132 (CN)
Inventeurs : YAO, Jiangbo; (CN)
Mandataire : COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; Room 15E, Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028 (CN)
Données relatives à la priorité :
201510323940.9 12.06.2015 CN
Titre (EN) ULTRAVIOLET CLEANING DEVICE OF GLASS SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE PAR ULTRAVIOLETS DE SUBSTRAT EN VERRE
(ZH) 玻璃基板的紫外光清洗装置
Abrégé : front page image
(EN)An ultraviolet cleaning device of a glass substrate comprises: a lamp box (1), an ultraviolet lamp (2) arranged above within the lamp box (1), a transparent shield (3) arranged below the ultraviolet lamp (2), a humidifier (4) arranged below the transparent shield (3), and an intensive air exhaust device (5) arranged below the transparent shield (3) and also opposite the humidifier (4). When the ultraviolet cleaning device is in use, a glass substrate (6) is delivered into the lamp box (1), ultraviolet light emitted by the ultraviolet lamp (2) runs through the shield (3) to irradiate and thus clean the glass substrate (6); humidity and oxygen content in the lamp box (1) are adjusted through the humidifier (4) so that a layer of water molecules are adsorbed to the surface of the glass substrate (6), electrons that are generated during dry cleaning with ultraviolet light can be gradually conducted and leaked through the water molecules, so accumulation of static electricity can be effectively suppressed and the phenomenon of damages caused by static electricity can be alleviated; meanwhile, an increase in oxygen content leads to the increased concentration of active oxygen atoms within the lamp box (1), which consequently improves the effect of ultraviolet cleaning for organic matters.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de nettoyage par ultraviolets d'un substrat en verre comprenant : un boîtier de lampe (1), une lampe à ultraviolets (2) disposée au-dessus à l'intérieur du boîtier de lampe (1), un écran transparent (3) disposé au-dessous de la lampe à ultraviolets (2), un humidificateur (4) disposé au-dessous de l'écran transparent (3), et un dispositif d'échappement d'air intensif (5) disposé au-dessous de l'écran transparent (3) et également opposé à l'humidificateur (4). Lorsque le dispositif de nettoyage par ultraviolets est en cours d'utilisation, un substrat en verre (6) est distribué à l'intérieur du boîtier de lampe (1), la lumière ultraviolette émise par la lampe à ultraviolets (2) traverse l'écran (3) pour irradier et ainsi nettoyer le substrat en verre (6) ; l'humidité et la teneur en oxygène dans le boîtier de lampe (1) sont réglées par l'intermédiaire de l'humidificateur (4) de sorte qu'une couche de molécules d'eau sont adsorbées à la surface du substrat en verre (6), les électrons qui sont générés pendant le nettoyage à sec avec de la lumière ultraviolette peuvent graduellement être conduits et fuir à travers les molécules d'eau, de sorte que l'accumulation d'électricité statique peut être efficacement supprimée et le phénomène des dégâts causés par l'électricité statique peut être atténué ; pendant ce temps, une augmentation de la teneur en oxygène conduit à une concentration accrue d'atomes d'oxygène actif à l'intérieur du boîtier de lampe (1), ce qui améliore en conséquence l'effet de nettoyage par ultraviolets pour les substances organiques.
(ZH)一种玻璃基板的紫外光清洗装置,包括:灯箱(1)、置于灯箱(1)内上方的紫外光灯(2)、置于紫外光灯(2)下方的透明防护罩(3)、置于透明防护罩(3)下方的加湿器(4)、及置于透明防护罩(3)下方与加湿器(4)相对设置的强力排风装置(5);使用时,玻璃基板(6)被传送至灯箱(1)内,紫外光灯(2)发出的紫外光透过防护罩(3)照射于玻璃基板(6)上,对玻璃基板(6)进行清洗,并通过加湿器(4)调节灯箱(1)内部的湿度和氧含量,使玻璃基板(6)表面吸附一层水分子,紫外光干式清洗时产生的电子可通过水分子逐渐传导泄露,可有效抑制静电的积累,减少静电击伤现象,同时氧含量的增加使灯箱(1)内氧活性原子浓度也随之增加,从而提高了紫外光清洗有机物的效果。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)