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1. (WO2016197386) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET UTILISATION DE COMPOSÉS D'ACIDE DIALKYLPHOSPHINIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/197386 N° de la demande internationale : PCT/CN2015/081339
Date de publication : 15.12.2016 Date de dépôt international : 12.06.2015
CIB :
C07F 9/30 (2006.01) ,C08K 5/5313 (2006.01)
Déposants : NINGBO INSTITUTE OF MATERIALS TECHNOLOGY & ENGINEERING, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES[CN/CN]; No. 519 Zhuangshi Road, Zhenhai Ningbo, Zhejiang 315201, CN
Inventeurs : YAO, Qiang; CN
ZHAO, Yueying; CN
TANG, Tianbo; CN
Mandataire : PERIODIC LAW FIRM; B-1713 Deshengkaixuan Building, No.36 Deshengmenwai Street, Xicheng District Beijing 100088, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PREPARATION METHOD AND USE OF DIALKYL PHOSPHINIC ACID COMPOUNDS
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET UTILISATION DE COMPOSÉS D'ACIDE DIALKYLPHOSPHINIQUE
(ZH) 二烷基次膦酸类化合物的制备方法及其应用
Abrégé :
(EN) Disclosed is a preparation method for dialkyl phosphinic acid compounds. In the presence of a free radical initiator and a mercapto compound, phosphinic acid compounds react with olefins to prepare the dialkyl phosphinic acid compounds. The method is mild in reaction conditions, easy to operate, short in reaction time, high in the rate of conversion and high in product purity.
(FR) L'invention concerne un procédé de préparation de composés d'acide dialkylphosphinique. En présence d'un initiateur de radicaux libres et d'un composé mercapto, les composés d'acide phosphinique réagissent avec les oléfines, permettant ainsi de préparer des composés d'acide dialkylphosphinique. Le procédé utilise des conditions de réaction douces, est facile à mettre en œuvre, et se caractérise par un temps de réaction court, un taux de conversion élevé et une pureté de produit élevée.
(ZH) 一种二烷基次膦酸类化合物的制备方法,在自由基引发剂和含有巯基的化合物的存在下,次磷酸类化合物和烯烃反应制备二烷基次膦酸类化合物。该方法反应条件温和、操作简单、反应时间短、转化率高、产品纯度高。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)