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1. (WO2016196904) APPAREIL, PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR AFFECTER ET/OU TUER SÉLECTIVEMENT UN VIRUS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/196904    N° de la demande internationale :    PCT/US2016/035680
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 03.06.2016
CIB :
A61B 18/18 (2006.01), A61N 5/06 (2006.01)
Déposants : THE TRUSTEES OF COLUMBIA UNIVERSITY IN THE CITY OF NEW YORK [US/US]; 412 Low Memorial Library 535 West 116th Street New York, New York 10027 (US)
Inventeurs : RANDERS-PEHRSON, Gerhard; (US).
BRENNER, David Jonathan; (US).
BIGELOW, Alan; (US)
Mandataire : ABELEV, Gary; (US)
Données relatives à la priorité :
62/170,203 03.06.2015 US
Titre (EN) APPARATUS, METHOD AND SYSTEM FOR SELECTIVELY AFFECTING AND/OR KILLING A VIRUS
(FR) APPAREIL, PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR AFFECTER ET/OU TUER SÉLECTIVEMENT UN VIRUS
Abrégé : front page image
(EN)Certain exemplary embodiments of the present disclosure can provide an apparatus and method for generating at least one radiation can be provided. The exemplary apparatus and/or method can selectively kill and/or affect at least one virus. For example, a radiation source first arrangement can be provided which is configured to generate at least one radiation having one or more wavelengths provided in a range of about 200 nanometers (nm) to about 230 nm, and at least one second arrangement can be provided which is configured to prevent the at least one radiation from having any wavelength that is outside of the range can be provided or which can be substantially harmful to cells of the body.
(FR)Certains modes de réalisation exemplaires de la présente invention peuvent concerner un appareil et un procédé pour générer au moins un rayonnement. L'appareil et/ou procédé exemplaire peuvent tuer et/ou affecter sélectivement au moins un virus. Par exemple, un premier agencement de source de rayonnement peut être disposé qui est configuré pour générer au moins un rayonnement ayant une ou plusieurs longueurs d'onde situées dans une plage d'environ 200 nanomètres (nm) à environ 230 nm, et au moins un deuxième agencement peut être disposé qui est configuré pour empêcher l'au moins un rayonnement d’avoir une longueur d'onde quelconque qui est en dehors de la plage peut être disposé ou qui peut être sensiblement nocif pour les cellules du corps.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)