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1. (WO2016196903) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR RÉDUIRE LA FORMATION D'UNE CICATRICE AUTOUR D'UN IMPLANT NEURONAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/196903 N° de la demande internationale : PCT/US2016/035679
Date de publication : 08.12.2016 Date de dépôt international : 03.06.2016
CIB :
A61N 1/05 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
N
ÉLECTROTHÉRAPIE; MAGNÉTOTHÉRAPIE; THÉRAPIE PAR RADIATIONS; THÉRAPIE PAR ULTRASONS
1
Électrothérapie; Circuits à cet effet
02
Parties constitutives
04
Electrodes
05
à implanter ou à introduire dans le corps, p.ex. électrode cardiaque
Déposants :
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, Massachusetts 02139, US
Inventeurs :
SPENCER, Kevin C.; US
SY, Jay Christopher; US
CIMA, Michael J.; US
Mandataire :
KING, Kevin W.; US
Données relatives à la priorité :
62/171,05504.06.2015US
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR REDUCING SCAR FORMATION ABOUT A NEURAL IMPLANT
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS POUR RÉDUIRE LA FORMATION D'UNE CICATRICE AUTOUR D'UN IMPLANT NEURONAL
Abrégé :
(EN) Systems, devices, and methods are provided for reducing scar formation about a neural implant due to brain tissue and neural implant movement. In an embodiment, a neural implant is provided which has a surface coating that matches one or more mechanical properties, such as elastic modulus, of the brain tissue, thereby reduce scar formation about the neural implant due to normal brain micromotion.
(FR) La présente invention concerne des systèmes, des dispositifs et des procédés pour réduire la formation d'une cicatrice autour d'un implant neuronal due à un mouvement du tissu cérébral et d'un implant neuronal. Dans un mode de réalisation, un implant neuronal comporte un revêtement de surface qui correspond à une ou plusieurs propriétés mécaniques du tissu cérébral, telles que le module d'élasticité, ce qui permet de réduire la formation d'une cicatrice autour de l'implant neuronal due à un micromouvement normal du cerveau.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)